[发明专利]两性离子光可破坏淬灭剂在审
| 申请号： | 201710868485.X | 申请日： | 2017-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN107880017A | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | P·J·拉博姆;J·F·卡梅伦 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C07D333/76 | 分类号： | C07D333/76;C07D335/16;C07C381/12;G03F7/039 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陈哲锋,胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 两性 离子 破坏 淬灭剂 | ||
1.一种具有式(I)的光可破坏淬灭剂：
式(I)
其中
X是S或I，
每个R0连接到X，并且独立地是C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C6-30芳基，或包含前述中的至少一个的组合，前提是至少一个R0是多环或单环C6-30芳基；
r0是1或2，前提是当X是I时，r0是1，并且当X是S时，r0是2，其中当X是S时，基团R0任选地彼此连接以形成环；并且
Ar是被取代或未被取代的二价C6-C30芳香族基团；
L1和L2各自独立地是二价C1-C30键联基团，任选地包含有包含O、S、N、F的杂原子或包含前述杂原子中的至少一个的组合；
M是被取代或未被取代的二价C5-C30或更大的单环、多环或稠合多环环脂肪族基团，任选地包含有包含O、S、N、F的杂原子或包含前述中的至少一个的组合；
Y是含氧阴离子基团；并且
l1、l2和m各自独立地是0或1的整数。
2.根据权利要求1所述的光可破坏淬灭剂，其中所述式(I)化合物由式(II)表示
式(II)
其中
每个R0独立地是C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C6-30芳基，或包含前述中的至少一个的组合，前提是至少一个R0是多环或单环C6-30芳基；
基团R0任选地彼此连接以形成环；并且
Ar是被取代或未被取代的二价C6-C30芳香族基团；
L1和L2各自独立地是二价C1-C30键联基团，任选地包含有包含O、S、N、F的杂原子或包含前述杂原子中的至少一个的组合；
M是被取代或未被取代的二价C5-C30或更大的单环、多环或稠合多环环脂肪族基团，任选地包含有包含O、S、N、F的杂原子或包含前述中的至少一个的组合；
Y是含氧阴离子基团；并且
l1、l2和m各自独立地是0或1的整数。
3.根据权利要求2所述的光可破坏淬灭剂，其中每个R0是多环或单环C6-30芳基。
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