[发明专利]一种全方位等离子体浸没离子注入装置

权利要求书

1.一种全方位等离子体浸没离子注入装置，其特征在于：包括离子注入腔室和设置在离子注入腔室内的用以垂直固定待处理基片的靶台，在所述靶台上位于边缘部分左右对称分别设有夹持机构，所述夹持机构包括底部连接在靶台上的固定板和与固定板活动连接的锁紧板，所述固定板与锁紧板之间存在用以夹持固定待处理基片边缘部分的夹持间隙，所述夹持机构还包括设置在固定板和/或锁紧板上用以调节夹持间隙距离的锁紧构件，在所述离子注入腔室内位于靶台上方设有气体注入腔室，所述离子注入腔室与气体注入腔室之间通过挡板分隔，所述挡板阵列分布有气体注入通孔，各所述气体注入通孔沿圆周方向斜向贯穿挡板，各所述气体注入通孔的轴线方向与挡板所在平面之间具有夹角，各所述气体注入通孔呈内、外双环形阵列分布，处于内环的各所述气体注入通孔以顺时针沿圆周方向斜向贯穿挡板，处于外环的各所述气体注入通孔以逆时针沿圆周方向斜向贯穿挡板。

2.根据权利要求1所述的全方位等离子体浸没离子注入装置，其特征在于：所述固定板的底端向下延伸形成螺纹连接在靶台上的螺柱。

3.根据权利要求1或2所述的全方位等离子体浸没离子注入装置，其特征在于：在所述固定板上设有连接通孔，在所述锁紧板上相应设有嵌入连接通孔内的连接插销，所述锁紧构件包括固定连接在固定板并穿过锁紧板的锁紧螺栓和螺纹连接在锁紧螺栓并抵顶锁紧板的锁紧螺母。

4.根据权利要求1所述的全方位等离子体浸没离子注入装置，其特征在于：所述挡板的厚度≥5mm。

5.根据权利要求1所述的全方位等离子体浸没离子注入装置，其特征在于：所述夹角的角度范围为10°～30°。

6.根据权利要求1所述的全方位等离子体浸没离子注入装置，其特征在于：处于内环的各所述气体注入通孔与处于外环的各气体注入通孔间隔错开。