[发明专利]显影设备

说明书

技术领域

本发明属于半导体制造设备技术领域，尤其涉及一种显影设备。

背景技术

半导体制造行业基板主要的制程流程为涂布→曝光→显影；显影是用显影液将未曝光的光阻溶解掉，曝光的光阻保留下来，形成设计的图案(pattern)；显影需经过多个显影及水洗工作室(chamber)，容易造成较多的膜上异物；为同时保证显影效果的均一性及基板背面的清洁度，在基板的表面及背面均设置了喷洒装置(shower)，导致液体经常溅到chamber盖板上，而目前该设备盖板未做特殊处理，易回落下来滴到基板上造成膜上异物；现有技术中，现有设备的外盖板与锁扣(interlock)相连，主要靠内盖板防止液体溅出。目前采取的内盖板均为下凹式，中间低而四周高，造成盖板上的液体会回落到chamber内，造成膜上异物，且随着显影工序运行(run)时间越长，造成膜上异物的几率越高。

发明内容

本发明的目的是提供一种显影设备，能防止盖板上滴落液体而造成膜上异物。

为实现本发明的目的，本发明提供了如下的技术方案：

第一方面，本发明提供了一种显影设备，包括显影工作室，所述显影工作室包括壳体和第一盖板，所述壳体顶端设开口，所述第一盖板设于所述开口处且盖合至所述壳体，所述壳体内设用于固定待显影器件的显影工作台、相对所述显影工作台上部设置的第一喷洒装置、相对所述显影工作台下部设置的第二喷洒装置、设于所述第一喷洒装置上部的第二盖板，所述第一盖板位于所述第二盖板的背离所述第一喷洒装置的一侧，所述第一喷洒装置和所述第二喷洒装置均用于喷洒显影液或纯水，以对所述待显影器件进行显影或冲洗；所述第二盖板中部背向所述显影工作台方向突出，以将溅到所述第二盖板上的所述显影液或纯水通过所述第二盖板侧边流下，所述第二盖板与所述壳体的内壁连接。

在第一方面的第一种可能的实现方式中，还包括导流槽，所述导流槽设于所述第二盖板与所述壳体的内壁连接位置下方，以将所述第二盖板侧边流下的所述显影液或纯水流出。

结合第一方面及第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面的第二种可能的实现方式中，所述导流槽相对水平面具有倾斜角度，以使所述导流槽具有相对水平面较高的第一端和较低的第二端，所述第二端通过管路连接至所述壳体底部的排液口。

结合第一方面及第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面的第三种可能的实现方式中，所述导流槽相对所述壳体单独设置并固定至所述壳体的侧壁。

结合第一方面及第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面的第四种可能的实现方式中，所述导流槽为设于所述壳体侧壁内的凹槽，所述第二盖板与所述凹槽之间具有过渡斜面以使所述显影液或纯水流入所述凹槽内。

结合第一方面及第一方面的第一种至第四种可能的实现方式，在第一方面的第五种可能的实现方式中，所述第二盖板为瓦片状，且中部突出后为线状，以使溅到所述第二盖板上的所述显影液或纯水从所述第二盖板中部向两个侧边流下。

结合第一方面及第一方面的第五种可能的实现方式，在第一方面的第六种可能的实现方式中，所述第二盖板形状为折板，所述折板中部的折角范围为90°～175°。

结合第一方面及第一方面的第五种可能的实现方式，在第一方面的第七种可能的实现方式中，所述第二盖板形状为圆弧板。

结合第一方面及第一方面的第五种可能的实现方式，在第一方面的第八种可能的实现方式中，所述第二盖板形状为两段圆弧相交的曲面板。

结合第一方面及第一方面的第一种至第五种可能的实现方式，在第一方面的第九种可能的实现方式中，所述第二盖板为具有四个边的碗状，且中部突出后为点状，以使溅到所述第二盖板上的所述显影液或纯水从所述第二盖板中部向四个侧边流下。

结合第一方面及第一方面的第九种可能的实现方式，在第一方面的第十种可能的实现方式中，所述第二盖板形状为多块平面相交。

结合第一方面及第一方面的第九种可能的实现方式，在第一方面的第十一种可能的实现方式中，所述第二盖板形状为球面。

结合第一方面及第一方面的第九种可能的实现方式，在第一方面的第十二种可能的实现方式中，所述第二盖板形状为多块圆弧面相交。

本发明的有益效果：