[发明专利]耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710864171.2 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN108048809B 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 徐江;孙腾腾;姚凡 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 贺翔;杨文晰
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 抗菌 moo base sub
【权利要求书】:

1.一种耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:

a.首先利用双阴极等离子溅射Mo-Si-Ag层,工艺参数:靶材电压800V~1000V,工件电压250V~350V,靶材与工件间距10mm~20mm,Ar气压25Pa~40Pa,沉积温度750℃~950℃,沉积时间3.0h~5.0h;

b.其次进行等离子氧化,工艺参数:靶材电压650V~750V,工件电压250V~350V,靶材与工件间距10mm~15mm,Ar气压25Pa~40Pa,氧分压0.1Pa~1.0Pa,氧化时间1.5h~2.0h。

2.根据权利要求1所述耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,所述靶材为混合Mo-Si-Ag靶。

3.根据权利要求2所述耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,所述混合Mo-Si-Ag靶中,Mo、Si和Ag的摩尔质量比为47:47:6。

4.根据权利要求2所述耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,所述工件为316L不锈钢。

5.根据权利要求1-4之一所述耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤a双阴极等离子溅射工艺参数:靶材电压900V,工件电压350V,靶材与工件间距15mm,Ar气压35Pa,沉积温度850℃,沉积时间3.5h。

6.根据权利要求5所述耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤b等离子氧化工艺参数:靶材电压750V,工件电压300V,靶材与工件间距10mm,氧分压1.0Pa,氧化时间1.5h。

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