[发明专利]透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法

权利要求书

1.一种透明导电性薄膜，包括：

基材，包括相对设置的第一表面及第二表面；

依次形成于所述第一表面的第一光学调整层、第一透明导电层及第一金属层；

依次形成于所述第二表面的第二光学调整、第二透明导电层及第二金属层；

其特征在于，所述第一光学调整层和/或所述第二光学调整层中含有多个颗粒，以在所述第一金属层和/或所述第二金属层的表面形成多个凸起；

其中，所述多个颗粒的材质与所述第一光学调整层及所述第二光学调整层的材质相同且均为有机材质，所述多个颗粒与所述基材的表面之间存在间隔，且所述颗粒的粒径小于平坦区域的厚度，所述平坦区域为所述第一光学调整或所述第二光学调整层未设置有所述颗粒的区域，所述颗粒位于所述第一光学调整层或所述第二光学调整层中的部分占所述颗粒的比例小于二分之一。

2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述平坦区域的厚度为45至145纳米。

3.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述颗粒的材质为有机硅类聚合物或丙烯酸酯类聚合物。

4.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述基材为环烯烃聚合物薄膜。

5.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述凸起的分布密度为100~3000个/mm²。

6.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，在沿垂直于所述第一金属层和/或所述第二金属层表面的方向上，所述多个凸起的高度为0.1~0.5μm。

7.一种触控屏，其特征在于，所述触控屏由上述权利要求1至6任一项所述的透明导电性薄膜所制成，所述触控屏包括触控区及引线区，所述第一金属层及所述第二金属层位于所述引线区；所述触控区包括由所述第一透明导电层蚀刻而成的第一电极、及由第二透明导电层蚀刻而成的第二电极；所述引线区包括由所述第一金属层及位于所述引线区的第一透明导电层被蚀刻形成的第一引线，及由所述第二金属层及位于所述引线区的第二透明导电层被蚀刻形成的第二引线。

8.一种触控屏的制备方法，其特征在于，包括步骤：

提供一种如上述权利要求1至6任一项所述的透明导电性薄膜；

蚀刻所述第一金属层和所述第二金属层，以露出触控区的第一透明导电层和第二透明导电层，并形成位于引线区的金属引线图案；

蚀刻所述第一透明导电层和所述第二透明导电层，以形成位于触控区的第一电极和第二电极，并形成位于引线区的透明引线图案，所述金属引线图案与所述透明引线图案共同构成电极引线。