[发明专利]玻璃板和玻璃基板的制造方法在审
| 申请号: | 201710860184.2 | 申请日: | 2017-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN107857480A | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
| 发明(设计)人: | 佐藤启史;似内佑辅;中谷嘉孝;山田兼士;富永龙;米道友广 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 玻璃板 玻璃 制造 方法 | ||
1.一种玻璃板,其中,
该玻璃板具有:
第1主表面;
第2主表面,其与所述第1主表面相对;以及
端面,其连接所述第1主表面和所述第2主表面,
所述第1主表面的第1表面粗糙度小于所述第2主表面的第2表面粗糙度,
所述第1主表面的Al/Si的值大于所述第2主表面的Al/Si的值。
2.根据权利要求1所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的所述Al/Si的值在所述第2主表面的所述Al/Si的值的1.3倍以上。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的所述Al/Si的值在0.2以上。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的氟的含量的平均值在所述第2主表面的氟的含量的平均值的1/2倍以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的氟的含量的平均值小于0.39atm%。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的比表面积率的增加量在所述第2主表面的比表面积率的增加量的1/3以下。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的比表面积率的增加量在0.03%以下。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的Ra在所述第2主表面的Ra的0.75倍以下。
9.根据权利要求1~7中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的Rku在所述第2主表面的Rku的0.65倍以下。
10.根据权利要求1~7中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的Rsm在所述第2主表面的Rsm的1.25倍以上。
11.根据权利要求1~7中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的Rv在所述第2主表面的Rv的0.6倍以下。
12.根据权利要求1~7中任一项所述的玻璃板,其中,
所述第1主表面的Rz在所述第2主表面的Rz的0.7倍以下。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的玻璃板,其中,
所述端面包括:
第1端面;
第2端面,其与所述第1端面相对;
第3端面,其连接所述第1端面的一端和所述第2端面的一端;以及
第4端面,其连接所述第1端面的另一端和所述第2端面的另一端,且与所述第3端面相对,
所述第1端面、所述第2端面、所述第3端面以及所述第4端面的碎玻璃剥离率相等。
14.根据权利要求13所述的玻璃板,其中,
所述第1端面、所述第2端面、所述第3端面以及所述第4端面的表面粗糙度相等。
15.一种玻璃基板的制造方法,该玻璃基板为显示器用玻璃基板,其中,
该制造方法具有:
制作玻璃基板的工序;以及
表面粗糙化工序,仅对所述玻璃基板的主表面中的一个主表面的玻璃表面使用反应气体进行表面粗糙化。
16.根据权利要求15所述的玻璃基板的制造方法,其中,
在所述表面粗糙化工序中,
使用防止所述玻璃基板的主表面中的另一个主表面的玻璃表面与所述反应气体接触的接触抑制构件。
17.根据权利要求15或16所述的玻璃基板的制造方法,其中,
在所述表面粗糙化工序中,
防止所述反应气体向所述玻璃基板的主表面中的另一个主表面的玻璃表面侧蔓延。
18.根据权利要求15~17中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其中,
在所述表面粗糙化工序中,
包含连续输送第1玻璃板和第2玻璃板的工序,
在使所述第1玻璃板表面粗糙化之后,在直到对所述第2玻璃板进行表面粗糙化之前,防止所述反应气体在表面粗糙化装置内滞留。
19.根据权利要求15~17中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其中,
在所述表面粗糙化工序中,
包含连续输送第1玻璃板和第2玻璃板的工序,
并且包含以下工序:在使所述第1玻璃板表面粗糙化之后,在直到所述第2玻璃板进行表面粗糙化之前,吹走因所述反应气体在表面粗糙化装置内滞留而形成的残留气体。
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