[发明专利]一种具有润滑效果的搅拌底座在审
| 申请号: | 201710855665.4 | 申请日: | 2017-09-20 |
| 公开(公告)号: | CN107486102A | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
| 发明(设计)人: | 高文英 | 申请(专利权)人: | 高文英 |
| 主分类号: | B01F15/00 | 分类号: | B01F15/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 225000 江苏省扬州市东*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 润滑 效果 搅拌 底座 | ||
技术领域
本发明涉及机械技术领域,具体为一种具有润滑效果的搅拌底座。
背景技术
搅拌器是使液体、气体介质强迫对流并均匀混合的器件。搅拌器的类型、尺寸及转速,对搅拌功率在总体流动和湍流脉动之间的分配都有影响。一般说来,涡轮式搅拌器的功率分配对湍流脉动有利,而旋桨式搅拌器对总体流动有利。对于同一类型的搅拌器来说,在功率消耗相同的条件下,大直径、低转速的搅拌器,功率主要消耗于总体流动,有利于宏观混合。小直径、高转速的搅拌器,功率主要消耗于湍流脉动,有利于微观混合。
目前,搅拌器在工作过程中为了方便固定、提高搅拌效率和稳定运行,一般会安装固定底座,有的搅拌器工作环境不同,有的直接与水接触,当水进入固定底座的内部,其固定底座就会发生锈蚀,影响搅拌轴的转动效率,甚至是固定底座发生卡壳的情况发生。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种具有润滑效果的搅拌底座,解决了上述背景中提出的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种具有润滑效果的搅拌底座,包括搅拌轴,所述搅拌轴的外表面活动插接有固定底座,所述固定底座的右侧固定连接有底座固定螺丝杆,所述固定底座的左侧并位于搅拌轴的外表面设置有密封座,所述密封座的上方设置有第一固定螺丝杆,所述第一固定螺丝杆的螺纹端依次贯穿密封座和固定底座并与固定底座螺纹连接,所述密封座的左侧设置有第二固定螺丝杆,所述第二固定螺丝杆的螺纹端依次贯穿密封座和固定底座并与固定底座螺纹连接,所述固定底座的内壁并位于搅拌轴的外表面开设有第一环形凹槽,所述第一环形凹槽的内壁活动连接有第一支撑弹簧,所述第一支撑弹簧远离固定底座的一端固定连接有第一密封圈,所述第一密封圈的左侧与密封座接触,所述固定底座的内壁开设有两个轴承放置槽,两个轴承放置槽的内壁固定连接有轴承,所述轴承的内圈与搅拌轴固定套接,所述固定底座的内壁并位于两个轴承之间开设有润滑油腔,所述固定底座的右侧开设有注油孔,所述注油孔与润滑油腔相连通,所述注油孔的内壁并位于固定底座的右侧活动连接有注油塞,所述固定底座的内壁并位于轴承的右侧开设有第二环形凹槽,所述第二环形凹槽的内部活动连接有第二支撑弹簧,所述第二支撑弹簧远离第二环形凹槽内壁顶部的一端固定连接有顶杆,所述顶杆的远离第二支撑弹簧的一端固定连接有第二密封圈。
优选的,所述第一密封圈和第二密封圈的内圈均与搅拌轴活动套接,所述第一密封圈和第二密封圈内圈的直径相同。
优选的,所述第一固定螺丝杆的数量有两个,两个第一固定螺丝杆以搅拌轴为中轴线对称设置。
优选的,所述第一密封圈的截面形状呈梯形,所述密封座的内壁开设有与第一密封圈相适配的凹槽。
优选的,所述底座固定螺丝杆的数量有两个,两个底座固定螺丝杆以搅拌轴为中轴线对称设置。
优选的,所述润滑油腔的两侧与两个轴承相连通。
(三)有益效果
本发明提供了一种具有润滑效果的搅拌底座。具备以下有益效果:
1、该具有润滑效果的搅拌底座,通过设置润滑油腔可使搅拌底座内部设置的轴承起到润滑的效果,有效提升了搅拌轴的转动效率,设置第一支弹簧和第二支撑弹簧可对第一密封圈和第二密封圈进行挤压,进一步提升了固定底座的密封性,有效防止固定底座内部进水发生锈蚀,有效提高了固定底座的耐久性。
2、该具有润滑效果的搅拌底座,通过设置注油孔可对润滑油腔的内部进行注油,通过润滑油腔的注油,可对两个轴承进行润滑操作,提高轴承的润滑性能并提高轴承的滚动效率。
附图说明
图1为本发明结构剖视图;
图2为本发明结构俯视图。
其中,1搅拌轴、2固定底座、3密封座、4第一固定螺丝杆、5第二固定螺丝杆、6底座固定螺丝杆、7第一环形凹槽、8第一支撑弹簧、9第一密封圈、10润滑油腔、11第二环形凹槽、12第二支撑弹簧、13顶杆、14第二密封圈、15注油孔、16注油塞、17轴承放置槽、18轴承。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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