[发明专利]可稳定调控氡子体状态参数的装置与方法

权利要求书

1.可稳定调控氡子体状态参数的装置，包括单分散性气溶胶产生单元、小体积氡室、充源调控回路、氡子体状态参数调控回路、采样监测回路；

所述单分散性气溶胶产生单元用于向小体积氡室中按照不同流率稳定输入一定浓度和粒径的单分散性气溶胶，其包括单分散性气溶胶发生器、与所述单分散性气溶胶发生器连接的气溶胶稀释器以及与所述气溶胶稀释器连接的分流器，所述分流器连接小体积氡室；

所述小体积氡室中间段呈圆柱形、两端呈圆台形，以保证气流在其腔室内流动均匀；

所述充源调控回路包括调控管路A，所述调控管路A的进气端连接小体积氡室的一端，所述调控管路A的回气端连接小体积氡室的另一端，所述调控管路A上安装有氡源室及循环泵A；

所述氡子体状态参数调控回路包括调控管路B，所述调控管路B的进气端连接小体积氡室的一端，所述调控管路B的回气端连接小体积氡室的另一端，所述调控管路B上安装有循环泵B；

所述采样监测回路用于监测调控过程中小体积氡室内的气溶胶粒子数浓度和氡及其子体浓度等参数，所述采样监测回路包括采样管路，所述采样管路的进气端连接小体积氡室的一端，所述采样管路的回气端连接小体积氡室的另一端，所述采样管路上安装有氡浓度监测仪、氡子体监测仪和凝结核计数器；

所述采样管路与调控管路B并联，所述采样管路的回气端与调控管路B的回气端汇合后经一条总回气管路与小体积氡室相连，所述总回气管路中安装有滤膜B。

2.根据权利要求1所述的可稳定调控氡子体状态参数的装置，其特征在于：所述调控管路A中还安装有滤膜A，所述滤膜A、氡源室及循环泵A从调控管路A的进气端往回气端依次设置。

3.根据权利要求2所述的可稳定调控氡子体状态参数的装置，其特征在于：所述采样管路中安装有滤膜C，所述滤膜C靠近采样管路的回气端设置且位于氡浓度监测仪、氡子体监测仪和凝结核计数器之后。

4.根据权利要求3所述的可稳定调控氡子体状态参数的装置，其特征在于：所述调控管路B中安装有滤膜D，所述滤膜D靠近调控管路B的回气端设置且位于循环泵B之后。

5.根据权利要求2所述的可稳定调控氡子体状态参数的装置，其特征在于：所述调控管路A上设置有泄压口，所述泄压口位于滤膜A之前。

6.权利要求5所述可稳定调控氡子体状态参数的装置实现稳定调控氡子体状态参数的方法：

在氡源室中的氡源活度固定的情况下，设定好所述单分散性气溶胶发生器产出的气溶胶粒子粒径，然后配合使用稀释器和分流器以设定的流率向小体积氡室中稳定输入设定浓度的气溶胶粒子；

使所述采样监测回路的总采样流率保持恒定，并调节所述循环泵A使得充源调控回路的流率保持恒定，再通过所述循环泵B调节氡子体状态参数调控回路的循环流率，使得所述小体积氡室的总换气率平稳改变且所述小体积氡室的总换气流率始终大于采样监测回路的总采样流率，从而实现平稳调控小体积氡室内气溶胶粒子浓度，进而实现氡子体浓度、氡子体平衡因子及氡子体未结合态份额的稳定调控；

所述小体积氡室的总换气流率＝充源调控回路流率+采样监测回路流率+氡子体状态参数调控回路流率；

所述小体积氡室的总换气率＝小体积氡室的总换气流率/小体积氡室的体积。