[发明专利]一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机

说明书

本发明公开了一种基于Micro‑LED无掩模投影固定式紫外曝光机，包括Micro‑LED、计算机及图形控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。为使Micro‑LED像素尺寸符合实际曝光需求，采用放大或缩小镜头用于放大或缩小曝光像素的尺寸。本发明一种基于Micro‑LED无掩模投影固定式紫外曝光机，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。

技术领域

本发明涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机。

背景技术

在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而目前现有无掩模曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影镜头的复杂结构，导致光源能量到工作表面能量损失过高，同时由于光源功率和DMD芯片最大承受功率受限，无法达到足够的曝光强度。

发明内容

本发明要解决的问题是：

现有传统掩模式曝光机和无掩模紫外曝光机，系统效率低，曝光强度不足等问题。

而本发明采用一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机，Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮。底层用CMOS集成电路工艺制成驱动电路。CMOS集成电路工艺主要包括硅基CMOS电路工艺和玻璃基CMOS电路工艺。Micro-LED发出的光通过放大或缩小镜头作用到待曝光工件表面，没有经过复杂光学系统的损耗，因此本发明所述曝光机可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。

本发明提供一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机，该系统包括Micro-LED、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。

所述Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。

所述Micro-LED用作光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2。

所述计算机及图形控制软件是指图形分切，瞬时图形数据向Micro-LED传输。

所述放大或缩小镜头是为使Micro-LED像素尺寸符合实际曝光需求，用于放大或缩小曝光像素尺寸的镜头。

所述待曝光工件表面是Micro-LED通过放大或缩小镜头成像所投射到待曝光工件表面所形成的工作面。

所述工作台用于放置待曝光工件表面。

本发明所提供一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机的主要优点和积极效果如下：由于无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。

附图说明

为进一步说明本发明的技术内容，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：

图1为本发明的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。

请参阅图1所示，本发明提供一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机，包括：