[发明专利]一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料

权利要求书

1.一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料，其特征在于：该材料由钨或钨合金、渗硼层组成，其中渗硼层的厚度为38～45μm；其中钨合金为Ni、Cu、Nb、Co、Mo、Cr或C元素与钨元素组成的合金，其中钨质量百分比为85～99%；

所述钨硼层状材料的制备工艺为：

对纯钨或钨合金基体进行预处理，处理流程为：表面除油、去离子水清洗、砂纸打磨、丙酮清洗、去离子水超声清洗；渗硼剂包括供硼剂、还原剂、活化剂，将以上试剂按供硼剂、还原剂、活化剂的质量比为1:6:1:1～1:7:1:1的比例放入球磨机中混合均匀，将切割好的钨或钨合金基体材料埋入渗硼剂中，密封于刚玉坩埚中，在温度为1000～1300℃的工艺条件下进行高温渗硼处理10～15h；取出的渗硼试样，室温冷却后放入热水中去除表面残留的渗硼剂及其他杂质即得具有射线及中子综合屏蔽效果的层状材料，其中供硼剂为非定形硼粉和硼砂，还原剂为铝粉，活化剂为氯化钠。