[发明专利]一种耐污耐紫外线陶釉在审

专利信息
申请号: 201710846432.8 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN107640899A 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 潘正龙 申请(专利权)人: 潘正龙
主分类号: C03C8/18 分类号: C03C8/18;C03C8/00
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 代理人: 杨霞,翟攀攀
地址: 241000 安徽省芜*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 耐污耐 紫外线
【说明书】:

技术领域

发明涉及陶釉材料的技术领域,尤其涉及一种耐污耐紫外线陶釉。

背景技术

釉是一种硅酸盐,陶瓷器上所施的釉一般以石英、长石、粘土为原料,经研磨、加水调制后,涂敷于坯体表面,经一定温度的焙烧而熔融,温度下降时,形成陶瓷表面的玻璃质薄层。它使陶瓷器增加机械强度、热稳定性、介电强度和防止液体、气体的侵蚀。釉还有增加瓷器美观和便于洗拭、不被尘土粘染等作用。现有技术中的陶釉,其耐污和耐紫外线性能无法满足实际使用时的需求,故此亟需开发一种耐污耐紫外线陶釉来解决现有技术中的问题。

发明内容

为解决背景技术中存在的技术问题,本发明提出一种耐污耐紫外线陶釉,具有优异的耐污和防紫外线性能。

本发明提出的一种耐污耐紫外线陶釉,其原料按重量份包括:陶土80-120份、氟碳树脂40-50份、醇酸树脂25-45份、氨基树脂6-12份、脂肪酸聚酰胺蜡1-5份、聚丙烯酸酯乳液5-15份、有机硅树脂1-5份、环氧树脂3-6份、铝粉2-5份、有机膨润土1-6份、疏水性气相二氧化硅1-4份、蒙脱土2-4份、乙二醇丁醚1-3份、六甲氧基甲基三聚氰胺2-6份、二甲基乙醇胺1-4份、异丙醇2-4份、六偏磷酸钠3-5份、醋酸丁酯1-4份、硅烷偶联剂KH-560 2-5份、耐污改性填料4-8份、耐紫外线助剂5-15份。

优选地,耐污改性填料的原料按重量份包括:聚偏氟乙烯5-15份、纳米二氧化钛4-8份、聚乙二醇2-6份、N,N-二甲基甲酰胺1-5份、辛基异噻唑啉酮3-6份、水10-20份、温石棉1-5份、陶瓷粉3-6份、纳米碳化硅1-5份、石蜡2-6份、玉石粉1-4份、硝化棉3-6份、硅烷偶联剂KH-570 1-5份、聚乙烯醇4-8份。

优选地,耐污改性填料按如下工艺进行制备:将聚偏氟乙烯、纳米二氧化钛和聚乙二醇混合均匀,搅拌,接着加入N,N-二甲基甲酰胺混合均匀,升温,保温,接着搅拌,冷却至室温得到物料a;将辛基异噻唑啉酮与水混合,然后加入温石棉和陶瓷粉混合均匀,升温,保温,搅拌,降温,冷却至室温后加入纳米碳化硅、石蜡、玉石粉、硝化棉、硅烷偶联剂KH-570和聚乙烯醇混合均匀,升温,保温,搅拌,烘干,研磨,过筛,得到耐污改性填料。

优选地,耐污改性填料按如下工艺进行制备:将聚偏氟乙烯、纳米二氧化钛和聚乙二醇混合均匀,于650-850r/min转速搅拌20-40min,接着加入N,N-二甲基甲酰胺混合均匀,升温至60-70℃,保温5-15min,接着于1250-1450r/min转速搅拌10-30min,冷却至室温得到物料a;将辛基异噻唑啉酮与水混合,然后加入温石棉和陶瓷粉混合均匀,升温至140-160℃,保温10-20min,于850-1050r/min转速搅拌1-3h,降温至120-130℃,冷却至室温后加入纳米碳化硅、石蜡、玉石粉、硝化棉、硅烷偶联剂KH-570和聚乙烯醇混合均匀,升温至80-100℃,保温1.5-3.5h,于2500-3500r/min转速搅拌15-35min,烘干,研磨,过60-80目筛,得到耐污改性填料。

优选地,耐紫外线助剂的原料按重量份包括:碳酸钙5-15份、磷酸氢钙3-6份、蒸馏水10-20份、十六烷基三甲氧基氯化铵3-6份、聚乙烯吡咯烷酮2-5份、六偏硫酸钠1-4份、正硅酸乙酯3-6份、聚磷酸铵2-5份、丙醇1-5份、硅烷偶联剂KH-570 3-6份、冰醋酸2-4份、聚乳酸纤维1-4份。

优选地,耐紫外线助剂按如下工艺进行制备:将碳酸钙、磷酸氢钙和蒸馏水混合均匀,调节pH至中性,接着搅拌,然后升温,保温,倾出上层清液,洗涤,干燥,研磨,冷却至室温,然后加入十六烷基三甲氧基氯化铵、聚乙烯吡咯烷酮和六偏硫酸钠混合均匀,搅拌,调节pH,然后添加正硅酸乙酯混合均匀,升温,保温,接着离心水洗至中性,然后冷却至室温得到物料A;将聚磷酸铵和丙醇混合均匀,然后升温,保温,接着加入硅烷偶联剂KH-570和冰醋酸混合均匀,搅拌,调节pH,然后升温,保温,洗涤后真空中干燥至恒重,冷却至室温,然后加入聚乳酸纤维和物料A混合均匀,搅拌,升温,保温,冷却至室温得到耐紫外线助剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于潘正龙,未经潘正龙许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710846432.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top