[发明专利]集成电路的电源网有效

专利信息
申请号: 201710840586.6 申请日: 2017-09-18
公开(公告)号: CN108231732B 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 希兰梅·毕斯沃斯;杨国男;王中兴 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;章侃铱
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成电路 电源
【说明书】:

本公开提供了一种集成电路的一电源网。上述电源网包括形成于一第一金属层的多个第一电源线与多个第二电源线,以及形成于一第二金属层的多个第三电源线与多个第四电源线。上述第二电源线是平行于上述第一电源线。上述第一与第二电源线是交错在上述第一金属层。上述第三电源线是垂直于上述第一电源线。上述第四电源线是平行于上述第三电源线。上述第三与第四电源线是交错在上述第二金属层。从个别的上述第一电源线至相邻的两个上述第二电源线的距离是相同的。从个别的上述第三电源线至相邻的两个上述第四电源线的距离是不同的。

技术领域

本公开有关于一种集成电路的电源网,且特别有关于一种非均匀电源传送结构的电源网。

背景技术

在集成电路(IC)设计中,使用电源网(power grid)能有效地传递电源与接地至晶体管。电源网是电源分布网络。一般来说,电源分布网络应该具有最小的电压变化以及高电流承载能力。例如,假如由电源网所引起的电压变化增加,则所传递的电源的信号强度会降低,而会出现IR压降(电阻电压降)。于是,集成电路的元件(例如标准单元(standard cell)或晶体管)无法正常工作,而遭受如功能故障或是操作速度降低等问题。

电源网是使用大量的金属线所形成。电迁移(electromigration,EM)长期以来是半导体工业中电源网会遇到的问题。当电子通过导体(例如金属线/路径)时,电子会通过静电吸引而容易地将导体的金属离子拉出。这将导致在电子流动方向上形成轻微的浓度梯度,其将会反过来建立相反的扩散梯度,即所谓的反向压力,而反向压力会容易地将离子移向较低密度的区域。假如电流以足够高的电流密度流动了足够长的时间,则“电子风(electron wind)”效应会形成空洞,其最终将导致空隙,而最后会形成开路(opencircuit),因而降低芯片的可靠性。

因此,电源网对集成电路设计中单元配置是重要的。

发明内容

本公开提供一种集成电路的一电源网。电源网包括形成于一第一金属层的多个第一电源线与多个第二电源线,以及形成于一第二金属层的多个第三电源线与多个第四电源线。第二电源线是平行于第一电源线,其中第一与第二电源线是交错在第一金属层。第三电源线是垂直于第一电源线。第四电源线是平行于第三电源线,其中第三与第四电源线是交错在第二金属层。从个别的第一电源线至相邻的两个第二电源线的距离是相同的,以及从个别的第三电源线至相邻的两个第四电源线的距离是不同的。

附图说明

图1是显示根据本发明一些实施例所述的集成电路的电源网络;

图2是显示根据本发明一些实施例所述的集成电路的电源网络;

图3是显示根据本发明一些实施例所述的集成电路的电源网络;

图4是显示根据本发明一些实施例所述的集成电路的电源网络;

图5是显示根据本发明一些实施例所述的集成电路的电源网络的配置方法;

图6是显示根据本发明一些实施例所述的集成电路的设计程序的简单流程图;以及

图7是显示根据本发明一些实施例所述的电脑系统。

附图标记说明:

100A、100B~电源网络;

110、110_1-110_6、120、120_1-120_6~电源线;

115_1-115_4、125_1-125_4~电源线中心;

200A、200A~集成电路;

210a-210g、220a-220b、230a-230b、240a-240d、250a~标准单元;

700~电脑系统;

710~电脑;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710840586.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top