[发明专利]光刻胶图案形成方法及压印模具

说明书

本申请公开了一种光刻胶图案形成方法及压印模具，方法包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对光刻胶进行压印，压印模具包括透光区和遮光区，透光区和遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向光刻胶的凸起，凸起的宽度小于光刻胶固化覆盖区的宽度；对光刻胶进行紫外固化，以固化光刻胶固化覆盖区所覆盖的光刻胶；去除所述压印模具；去除未固化的光刻胶，形成光刻胶图案。通过遮光区、透光区以及凸起的设置，可以经过一次压印，就形成具有至少两层结构的光刻胶形状，坡度角更陡直，有利于灰化后的图形控制，且图形化精度高，其精度可以达到10nm级别。此外，采用上述方案还具有操作简单，节约成本的优点。

技术领域

本申请一般涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种光刻胶图案形成方法及压印模具。

背景技术

在平板显示面板的制作过程中，为了节省掩膜的使用量，会对制成进行优化，例如将五掩膜制成优化为四掩膜制成，进行优化后一般采用half-tone掩膜或Gray Tone掩膜就可以完成台阶的成型。其中，half-tone掩膜或Gray Tone掩膜均属于半透型掩膜，也即在其图案化区域具有全透的部分及半透的部分。采用half-tone掩膜或Gray Tone掩膜可以通过一步制成来完成台阶的成型。但是，half-tone掩膜及GrayTone掩膜价格昂贵，且精度不高，坡度角倾斜度较大，由上述掩膜形成的台阶部分至少要有2-5um长度才能形成较好的形状，工艺要求高，空白边缘较小。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种光刻胶图案形成方法及压印模具，以解决现有技术中出现的掩膜价格高、精度低的问题。

本申请一方面提供一种光刻胶图案形成方法，包括以下步骤：

在基底上涂覆光刻胶；

通过压印模具对所述光刻胶进行压印，所述压印模具包括透光区及遮光区，所述透光区和所述遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，所述光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向所述光刻胶的凸起，所述凸起的宽度小于所述光刻胶固化覆盖区的宽度；

对所述光刻胶进行紫外固化，以固化所述光刻胶固化覆盖区所覆盖的所述光刻胶；

去除所述压印模具；

去除未固化的所述光刻胶，形成光刻胶图案。

进一步地，所述压印模具包括透明基板及设置于所述透明基板上的金属层，所述金属层构成所述遮光区。

进一步地，所述金属层与所述凸起位于所述透明基板相背的两侧。

进一步地，所述凸起设置于所述透光区，所述金属层与所述凸起位于所述透明基板的相同侧，所述金属层的表面凸出于所述凸起最外层的表面。

进一步地，所述透明基板为石英板，所述金属层的材料至少包括铬、钼和铝中的任一种。

另一方面提供一种压印模具，包括透光区及遮光区，所述透光区和所述遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，所述光刻胶固化覆盖区设置有至少一个凸起，所述凸起的宽度小于所述光刻胶固化覆盖区的宽度。

进一步地，所述压印模具包括透明基板及设置于所述透明基板上的金属层，所述金属层构成所述遮光区。

进一步地，所述金属层与所述凸起位于所述透明基板相背的两侧。

进一步地，所述凸起设置于所述透光区，所述金属层与所述凸起位于所述透明基板的相同侧，所述金属层的表面凸出于所述凸起最外层的表面。

进一步地，所述透明基板为石英板，所述金属层的材料至少包括铬、钼和铝中的任一种。