[发明专利]一种高精度同向双光轴以及多光轴平行性调校方法

权利要求书

1.一种高精度同向双光轴平行性调校方法，其中的第一光轴与第二光轴的出射方向相同，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1)：调校第一光轴使其水平，作为基准轴；

步骤2)：用自准直光管瞄准第一光轴，调整自准直光管使其与第一光轴共轴；

步骤3)：将平面反射镜放在自准直光管与第一光轴之间，反射面朝向自准直光管，调整反射镜，使反射像与自准直光管中心重合，即校准平面反射镜反射面与自准直光管光轴垂直；

步骤4)：将自准直光管移至平面反射镜有效范围内对应于第二光轴前方的区域，调整自准直光管，使自准直光管中心与平面反射镜的反射像重合；

步骤5)：移出平面反射镜，调整第二光轴，使第二光轴与自准直光管中心共轴，此时第一光轴与第二光轴平行。

2.根据权利要求1所述的高精度同向双光轴平行性调校方法，其特征在于：步骤1)中，利用经纬仪来校准第一光轴水平。

3.根据权利要求1所述的高精度同向双光轴平行性调校方法，其特征在于：当两光轴之间相距较远，超出平面反射镜有效范围时，则向第二光轴方向依次移动平面反射镜和自准直光管，每一步只移动其中一个以另一个为基准进行调校，直至自准直光管移至平面反射镜有效范围内对应于第二光轴前方的区域。

4.一种高精度同向多光轴平行性调校方法，其特征在于：先依照权利要求3所述的高精度同向双光轴平行性调校方法，调整其中两个光轴平行；然后重复依照权利要求3所述的高精度同向双光轴平行性调校方法，分别调整其余各光轴与所述基准轴平行，从而最终使得多光轴互相平行。

5.一种高精度同向多光轴平行性调校方法，其特征在于：先依照权利要求3所述的高精度同向双光轴平行性调校方法，调整其中两个光轴平行；对于其余各光轴，分别依次就近重新确定已调校完成的某一光轴作为基准轴，重复进行权利要求3所述的高精度同向双光轴平行性调校方法，从而最终使得多光轴互相平行。