[发明专利]单细胞RT-PCR芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710828204.8 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN107603849B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 王琛瑜;俞育德;刘文文;杨翎;魏清泉 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: C12M1/00 分类号: C12M1/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单细胞 rt pcr 芯片 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种单细胞RT-PCR芯片,包括基片、盖片,以及位于基片和盖片之间的密封圈,其特征在于,所述基片上具有双套孔微阵列结构,该双套孔微阵列结构包括若干双套孔;所述双套孔包括第一孔以及由第一孔底部部分区域进一步向下开设的第二孔;

所述第一孔的直径大于第二孔的直径;

所述第二孔的直径和深度均大于细胞的直径且小于细胞直径的两倍,保证只允许单个细胞进入第二孔,所述密封圈将所述双套孔微列阵围绕在内部,使盖片与基片之间形成密封空间,所述密封空间充满密封油。

2.根据权利要求1所述的单细胞RT-PCR芯片,其特征在于:

每一双套孔中所述第二孔为一个或多个;

所述第二孔为一个时,该第二孔由第一孔底部中心进一步向下开设;

所述第二孔为多个时,该第二孔均匀地由第一孔底部向下开设。

3.根据权利要求1所述的单细胞RT-PCR芯片,其特征在于:

所述双套孔微阵列结构的阵列排布形式包括矩形、环形、镜像和密排。

4.根据权利要求1所述的单细胞RT-PCR芯片,其特征在于:

所述基片为无生物毒性的材料,所述无生物毒性的材料包括石英玻璃、硅片、二氧化硅片、光纤面板、有机薄片和医用不锈钢;

所述盖片为透明材料,所述透明材料包括石英玻璃、二氧化硅片和透明的有机薄片。

5.一种制备单细胞RT-PCR芯片的方法,包括以下步骤:

步骤1:取一基板,对该基板进行清洗以去除表面的有机杂质和无机杂质;

步骤2:在基板上制备双套孔微阵列结构,得到具有双套孔微阵列结构的基片,所述双套孔微阵列的阵列排布形式包括矩形、环形、镜像和密排,所述双套孔微阵列结构包括若干双套孔;所述双套孔包括第一孔以及由第一孔底部部分区域进一步向下开设的第二孔;所述第一孔的直径大于第二孔的直径;所述第二孔的直径和深度均大于细胞的直径且小于细胞直径的两倍,保证只允许单个细胞进入第二孔,密封圈将所述双套孔微列阵围绕在内部,使盖片与基片之间形成密封空间,所述密封空间充满密封油;

步骤3:对基片进行表面处理;

步骤4:用密封圈将双套孔微列阵结构围绕在内部,用盖片压住密封圈完成芯片封装。

6.根据权利要求5所述的制备单细胞RT-PCR芯片的方法,其特征在于,步骤2包括以下子步骤:

步骤21:基板正面均匀地旋涂一层光刻胶;

步骤22:通过光刻工艺和刻蚀工艺将掩模板上第一孔的图形转移到基板上;

步骤23:清洗光刻胶;

步骤24:进行第二次光刻工艺和刻蚀工艺,将掩模板上第二孔的图形转移到基板上。

7.根据权利要求6所述的制备单细胞RT-PCR芯片的方法,其特征在于:

每一双套孔中所述第二孔为一个或多个;

所述第二孔为一个时,该第二孔由第一孔底部中心进一步向下开设;所述第二孔为多个时,该第二孔均匀地由第一孔底部向下开设。

8.根据权利要求5所述的制备单细胞RT-PCR芯片的方法,所述清洗方法包括有机清洗和无机清洗;所述表面处理为亲水处理,该亲水处理包括硅烷化处理和牛血清蛋白溶液冲洗法。

9.一种单细胞RT-PCR芯片的使用方法,其特征在于,该芯片在工作状态时,所述第二孔捕捉单细胞;所述双套孔中充满反应试剂,作为RT-PCR反应池;所述密封空间中充满密封油,该芯片为权利要求1~4中任一项所述的单细胞RT-PCR芯片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710828204.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top