[发明专利]一种正性光刻胶用显影液及其应用

权利要求书

1.一种正性光刻胶用显影液，其特征在于，主要组分包含碱源、润湿分散剂、金属保护剂、水和显影增强剂，显影液中碱源的重量百分比分别为1～10%，显影增强剂为硼酸和α-羟基酸组合而成，硼酸与α-羟基酸的摩尔比为（0.1～0.3）:1，碱源与显影增强剂的摩尔比为1：（0.05～0.2），α-羟基酸为α-乙醇酸。

2.根据权利要求1所述的正性光刻胶用显影液，其特征在于，碱源为四烷基氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠、C2～C4的羟基酸钠盐、C2～C4的羟基酸钾盐中一种或两种以上的组合。

3.根据权利要求1所述的正性光刻胶用显影液，其特征在于，碱源为氢氧化钾和α-羟基酸钾组合而成，碱源中氢氧化钾的重量百分比为80～95%。

4.根据权利要求1所述的正性光刻胶用显影液，其特征在于，润湿分散剂为低分子量的聚丙烯酸钠和聚丙烯酸铵中的至少一种，聚丙烯酸钠和聚丙烯酸铵的分子量为500～3500。

5.根据权利要求1所述的正性光刻胶用显影液，其特征在于，金属保护剂为多羟基羧酸钠盐和/或硅酸钠，显影液中金属保护剂的浓度为100～1000ppm。

6.权利要求1-5中任意一项所述的光刻胶用显影液在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影工序中的应用。