[发明专利]一种在IP上自动生成水印的方法

权利要求书

1.一种在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、判断目标IP是否开启可写权限；

S2、若所述目标IP已开启可写权限，则进入步骤S3；若所述目标IP未开启可写权限，则弹出警告，并返回步骤S1；

S3、读取所述目标IP的IP工艺信息；读取预存的水印层次列表信息；

S4、将所述水印层次列表信息与所述IP工艺信息进行匹配，以在所述水印层次列表信息中得到预设Foundry所需的水印层次信息；

S5、读取所述目标IP的IP name，将所述水印层次信息以及所述IP name制作成所述目标IP的IP水印标签。

2.根据权利要求1所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，所述IP工艺信息包括所述目标IP的工艺库层次信息，所述目标IP使用的工艺信息，以及使用该工艺对应的Foundry信息。

3.根据权利要求2所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，所述水印层次列表信息包括预存的多个Foundry信息，以及每个Foundry所使用的工艺信息。

4.根据权利要求3所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，所述将所述水印层次列表信息与所述IP工艺信息进行匹配包括：将所述水印层次列表信息中的Foundry信息与所述目标IP使用的工艺对应的Foundry信息进行匹配，再提取匹配的Foundry信息所对应的水印层次信息。

5.根据权利要求1所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，所述IP name包括Vendor信息，Project Num信息，以及Version信息。

6.根据权利要求1所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，所述将所述水印层次信息以及所述IP name制作成所述目标IP的IP水印标签还包括：

将所述IP水印标签生成IP水印模块，放置于所述目标IP新建的mark层。

7.根据权利要求6所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，将所述IP水印模块放置于所述mark层的坐标(1，1)处。

8.根据权利要求1所述的在集成电路版图设计IP上自动生成水印的方法，其特征在于，所述若所述目标IP未开启可写权限，则弹出警告，并返回步骤S1中，所述警告包括：提示用户开启所述目标IP的可写权限。