[发明专利]变焦方法、变焦装置及电子设备有效
申请号: | 201710818041.5 | 申请日: | 2017-09-12 |
公开(公告)号: | CN107483828B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 杜琳 | 申请(专利权)人: | 北京小米移动软件有限公司 |
主分类号: | H04N5/232 | 分类号: | H04N5/232 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 100085 北京市海淀区清河*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 变焦 方法 装置 电子设备 | ||
本公开是关于一种变焦方法、变焦装置及电子设备。其中,上述变焦方法包括:获取图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,以形成预览图像。确定针对预览图像的变焦参数以及与变焦参数对应的实际成像区,调整所述成像子区在所述实际成像区的分布密度,以使成像子区在实际成像区的分布密度大于其他区域,进而提高变焦后的图像质量。其中,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变,上述反射电磁波信号随之发生变化,因此便于通过反射电磁波信号确定入射光线的光线信息。
技术领域
本公开涉及电子技术领域,尤其涉及变焦方法、变焦装置及电子设备。
背景技术
拍照时,我们通常会用到变焦功能,以获得对应变焦倍数的图像。在相关技术的相机等摄像装置中,图像传感器多通过感光单元接收入射光线,并将光线信息转化成电子信号进行保存。基于相关技术中的图像传感器,变焦采用截取图像中心部分并对截取图像进行采样计算的方法,以获得对应变焦倍数的图像。
发明内容
为克服相关技术中存在的问题,本公开提供一种变焦方法、变焦装置及电子设备。
根据本公开的第一方面,提出一种变焦方法,该方法包括:
获取反射电磁波信号,所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成;其中,所述图像传感器包括若干成像子区,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变;
根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,以形成预览图像;
获取针对所述预览图像的变焦参数,以确定与所述变焦参数对应的实际成像区;
调整所述成像子区的位置,以使所述实际成像区的成像子区分布密度大于其它区域。
可选的,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括:
对所述反射电磁波信号进行解调,以获得第一信号;
根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。
可选的,所述成像子区包括:
感光层,感应入射光线的照射,并发生形变;
反射层,返回相应的反射电磁波信号,且可发生与所述感光层对应的形变。
可选的,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括:
向监测模型发送所述反射电磁波信号,所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对;
接收所述监测模型输出的感光层的形变参数;
根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。
可选的,至少两个所述成像子区的形变属性不同;
和/或,至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。
可选的,调整所述成像子区的位置,以使所述实际成像区的成像子区分布密度大于其它区域,包括:
获取与所述实际成像区的成像子区分布密度相匹配的约束信息;
根据所述约束信息调整所述成像子区的分布密度。
可选的,获取针对所述成像子区的约束信息,包括以下方法中至少之一:
使用定制算法获取与所述实际成像区的成像子区分布密度相匹配的约束信息;
使用演化计算方法获取与所述实际成像区的成像子区分布密度相匹配的约束信息;
使用梯度下降加惩罚函数获取与所述实际成像区的成像子区分布密度相匹配的约束信息。
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