[发明专利]光学薄膜、有机电致发光显示面板及其制作方法有效
申请号: | 201710816266.7 | 申请日: | 2017-09-12 |
公开(公告)号: | CN107611279B | 公开(公告)日: | 2019-11-22 |
发明(设计)人: | 许杰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 孙伟峰;顾楠楠<国际申请>=<国际公布> |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学薄膜 有机 电致发光 显示 面板 及其 制作方法 | ||
本发明提供了一种光学薄膜,包括透明的薄膜本体,薄膜本体的一侧表面上设置有若干凹槽,相邻凹槽之间形成凸起。本发明还提供了一种有机电致发光显示面板,包括有机电致发光器件以及设于有机电致发光器件上的封装层,还包括所述的光学薄膜,光学薄膜设置在封装层背离有机电致发光器件的一侧表面上,所述凹槽与有机电致发光器件的发光区相对设置。本发明还提供了一种有机电致发光显示面板的制作方法。与现有技术相比,在薄膜本体上设置凹槽,通过光学薄膜替代现有的偏光片,使自然光投射到凹槽中后通过多次反射导致光损耗而被湮灭,从而在降低自然光对有机电致发光器件的影响的同时也降低了对有机电致发光器件自发光的损耗,而且也降低了生产成本。
技术领域
本发明涉及一种液晶显示面板技术,特别是一种光学薄膜、有机电致发光显示面板及其制作方法。
背景技术
随着信息技术和移动通讯技术的发展,能够显示视觉图像的显示装置也得到发展。诸如液晶显示(LCD)装置和有机发光显示(OLED)装置之类的平板显示装置被开发并使用。
一般来说,LCD装置包括液晶面板,液晶面板包括上基板(彩色滤光片(CF)基板)和下基板(薄膜晶体管阵列(TFT)基板)以及位于上基板与下基板之间的液晶层(LC)。液晶层被像素电极与公共电极之间产生的电场驱动,以显示图像。OLED装置包括有机发光二极管,有机发光二极管包括阳极、阴极以及位于阳极与阴极之间的有机发光层。在有机发光二极管中,分别来自阳极和阴极的空穴和电子组合,使得从有机发光层发射光,以显示图像。
其中AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,主动矩阵有机发光二极体)具有分辨率高,广视角,响应快,自发光等特点,被广泛使用,目前为了避免外界自然光对有机电致发光器件造成的眩光影响,目前多数OLED产品会选择λ/4偏光片和线偏光片结合来消除外界自然光对AMOLED的影响,这样虽然能够避消除外界自然光对AMOLED的影响,但也导致了有机电致发光器件的自发光有将近50%被损耗。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明提供一种光学薄膜、有机电致发光显示面板及其制作方法,从而降低自然光对有机电致发光器件的影响以及对有机电致发光器件自发光的损耗。
本发明提供了一种光学薄膜,包括透明的薄膜本体,所述薄膜本体的一侧表面上设置有若干凹槽,相邻凹槽之间形成凸起。
进一步地,所述凹槽阵列排布,形成网格状结构。
进一步地,所述凸起的截面形状为矩形、弧形或三角形。
进一步地,所述薄膜本体由金属材料或陶瓷材料制成。
进一步地,所述凹槽的宽度为20-50nm,深度为30-120nm。
进一步地,所述凸起的宽度为10-20nm。
本发明还提供了一种有机电致发光显示面板,包括有机电致发光器件以及设于有机电致发光器件上的封装层,还包括所述的光学薄膜,光学薄膜设置在封装层背离有机电致发光器件的一侧表面上,所述凹槽与子像素相对设置。
本发明还提供了一种有机电致发光显示面板的制作方法,在制作完封装层后,在封装层背离有机电致发光器件的一侧表面上制作一层透明薄膜;
对透明薄膜进行图案化处理后,形成具有若干凹槽的光学薄膜,所述凹槽与子像素相对设置。
进一步地,所述透明薄膜的厚度为50-150nm。
进一步地,所述凹槽阵列排布,形成网格状结构。
本发明与现有技术相比,在薄膜本体上设置凹槽,通过光学薄膜替代现有的偏光片,使自然光投射到凹槽中后通过多次反射导致光损耗而被湮灭,从而在降低自然光对有机电致发光器件的影响的同时也降低了对有机电致发光器件自发光的损耗,而且也降低了生产成本。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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