[发明专利]在绝缘衬底上制备大面积双层石墨烯薄膜的方法有效
| 申请号: | 201710811440.9 | 申请日: | 2017-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN107604338B | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
| 发明(设计)人: | 孙海斌;高延利;张崇武;王俊雅;王其尚;许军旗 | 申请(专利权)人: | 信阳师范学院 |
| 主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44 |
| 代理公司: | 常州市科谊专利代理事务所 32225 | 代理人: | 孙彬 |
| 地址: | 464000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 衬底 绝缘 铜管 双层石墨 制备 薄膜 复合 反应器 温度恒定 铜箔 常压化学气相沉积 氩气 催化作用 混合气体 气体碳源 铜催化剂 卷曲 氢气 放入 加热 外部 | ||
1.一种在绝缘衬底上制备大面积双层石墨烯薄膜的方法,其特征在于:包括以下步骤:
a)制备复合衬底:复合衬底包括位于外部的铜管,以及设置在铜管内部的绝缘衬底,绝缘衬底位于铜管的范围内,所述铜管由铜箔卷曲成管状而制成,所述铜管起到催化剂的作用;
b)将复合衬底放入反应器中,并向反应器中通入氩气和氢气的混合气体,使混合气体充满反应器;
c)对复合衬底进行加热,以使复合衬底中的铜管和绝缘衬底均达到目标温度,然后保持温度恒定30-120分钟,所述目标温度的温度范围为:1000℃~1050℃;
d)继续保持温度恒定,将气体碳源通入反应器中,即可在铜催化剂的作用下,在绝缘衬底的表面得到大面积双层石墨烯薄膜。
2.根据权利要求1所述的在绝缘衬底上制备大面积双层石墨烯薄膜的方法,其特征在于:步骤d)中所述的气体碳源为甲烷气体和/或乙炔气体。
3.根据权利要求2所述的在绝缘衬底上制备大面积双层石墨烯薄膜的方法,其特征在于:在步骤d)中,对于气体碳源,气体碳源与氢气、氩气体同时通入反应器中。
4.根据权利要求1所述的在绝缘衬底上制备大面积双层石墨烯薄膜的方法,其特征在于:所述复合衬底中的铜管由铜箔卷曲成管状而制成,所述铜箔以直径为1.5~5mm的石英管为模具,沿着石英管的内壁延伸卷曲成管状。
5.根据权利要求1所述的在绝缘衬底上制备大面积双层石墨烯薄膜的方法,其特征在于:所述复合衬底中的铜管由铜箔卷曲成管状而制成,所述反应器为石英管,所述铜箔以反应器的内壁为模具,沿着反应器的内壁延伸卷曲成管状。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信阳师范学院,未经信阳师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710811440.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





