[发明专利]偏振光元件、圆偏振光板及它们的制造方法

权利要求书

1.偏振光元件，是一种在透明基材上，光取向层及偏振光层依次按照顺序设置的起偏器，

该光取向层由侧链具有光反应性基团的聚合物形成，所述光反应性基团是查耳酮基或肉桂酰基，

该光取向层由其主链由从下述式(M-1)所示的(甲基)丙烯酸酯单元、式(M-2)所示的(甲基)丙烯酸酯单元、式(M-3)所示的(甲基)丙烯酰胺单元、式(M-4)所示的(甲基)丙烯酰胺单元、式(M-5)所示的乙烯醚单元、式(M-6)所示的乙烯醚单元、式(M-7)所示的(甲基)苯乙烯单元、式(M-8)所示的(甲基)苯乙烯单元、式(M-9)所示的乙烯酯单元和式(M-10)所示的乙烯酯单元当中选出的单元所构成的聚合物形成，

该偏振光层由含有聚合性近晶液晶化合物、二色性色素及流平剂的组合物形成，

式(M-1)～式(M-10)中，*表示相对于聚合物侧链的键合位置。

2.根据权利要求1所述的偏振光元件，所述二色性色素是式(2)所示的化合物，

A¹(-N＝N-A²)_p-N＝N-A³ (2)

式(2)中，

A¹及A³各自独立地表示具有或不具有取代基的苯基、具有或不具有取代基的萘基或者具有或不具有取代基的1价杂环基，A²表示具有或不具有取代基的对次苯基、具有或不具有取代基的1,4-萘二基或者具有或不具有取代基的2价杂环基，p表示1～4的整数，当p为2以上时，多个A²相互之间相同或不同。

3.根据权利要求1或2所述的偏振光元件，所述偏振光层是在X射线衍射测定中获得布拉格峰的偏振光层。

4.根据权利要求1或2所述的偏振光元件，所述组合物含有2种以上聚合性近晶液晶化合物。

5.根据权利要求1或2所述的偏振光元件，所述光取向层由侧链具有会发生二聚反应的光反应性基团的聚合物形成。

6.根据权利要求5所述的偏振光元件，所述具有光反应性基团的聚合物是含有式(A’)所示基团的聚合物，

式(A’)中，

n表示0或1，

X¹表示单键、-O-、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-或-CH₂-，

Y¹表示单键或-O-，

R¹及R²各自独立地表示氢原子、碳原子数1～4的烷基或碳原子数1～4的烷氧基，

*表示相对于聚合物主链的键合位置。

7.权利要求1所述的偏振光元件，其形状是膜状且为长条状。

8.权利要求1～6的任意一项所述的偏振光元件的制造方法，具备以下工序：

在所述透明基材上涂布含有具有所述光反应性基团的聚合物和溶剂的组合物，于该透明基材上形成第1涂布膜的工序；

通过从该第1涂布膜干燥除去该溶剂，于该透明基材上形成第1干燥被膜，获得第1层积体的工序；

通过对该第1干燥被膜进行偏振光UV照射，由该第1干燥被膜形成光取向层，获得第2层积体的工序；

在该第2层积体上的该光取向层上，涂布含有聚合性近晶液晶化合物、二色性色素及溶剂的组合物，于该光取向层上形成第2涂布膜的工序；

在该第2涂布膜中含有的该聚合性近晶液晶化合物不会进行聚合的条件下，通过对该第2涂布膜进行干燥，于该光取向层上形成第2干燥被膜，获得第3层积体的工序；

使该第2干燥被膜中的该聚合性近晶液晶化合物成为近晶液晶状态后，通过保持该近晶液晶状态使该聚合性近晶液晶化合物聚合，由该第2干燥被膜形成偏振光层的工序。