[发明专利]用于生成式制造三维物体的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201710797475.1 申请日: 2017-09-01
公开(公告)号: CN107791517B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: M·沙德 申请(专利权)人: EOS有限公司电镀光纤系统
主分类号: B29C64/153 分类号: B29C64/153;B29C64/35;B22F10/28;B28B1/00;B33Y40/00
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 姜雁琪
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 生成 制造 三维 物体 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种在生成式制造三维物体(2)的过程中产生顶盖气体流(44)的方法,通过布置在处理室中的构建区域(10)内的构建材料(13)的逐层施加和选择性固化在处理室(3)内进行所述生成式制造,

其中,所述处理室具有处理室壁(4),所述处理室壁具有处理室顶盖(4a),所述处理室顶盖位于所述构建区域(10)上方,

其中,至少暂时地在所述物体(2)的制造之前和/或期间和/或之后,处理气体的顶盖气体流(44)流动经过所述处理室(3),所述顶盖气体流以受控的方式从所述处理室顶盖(4a)朝向所述构建区域(10)流动,并且

其中,所述顶盖气体流(44)通过形成在所述处理室顶盖(4a)中的多个顶盖入口被供应到所述处理室(3),所述顶盖入口分布在所述处理室顶盖(4a)的区域上,并且被设计和/或被布置和/或被控制成使得当所述顶盖气体流(44)离开所述顶盖入口时,所述顶盖气体流基本垂直于所述构建区域(10)被向下引导到所述构建区域上,

其中,所述处理室顶盖包括具有壁的中空空间(73),所述中空空间在远离所述处理室(3)的外壁区域(74)处是基本封闭的,并且所述中空空间在毗邻所述处理室(3)的内壁区域处具有顶盖入口,其中,所述内壁区域基本上由板形成,并且所述顶盖入口至少部分地由所述板的孔(53)形成,所述板具有至少100个孔。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述顶盖入口被成形和/或被布置和/或被控制成使得,所述顶盖气体流(44)在所述处理室(3)的区域内被基本均匀地成形,

所述处理室的所述区域包括在所述构建区域(10)的竖向上方处理室高度的至少最靠下十分之一,所述处理室高度为从所述构建区域直至所述处理室顶盖(4a)沿竖向方向测量的高度,和/或

所述处理室的所述区域在所述构建区域(10)的平面内和/或在所述构建区域(10)上方的平行平面内包括至少所述构建区域(10)的区域。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述处理室的所述区域包括在所述构建区域(10)的竖向上方处理室高度的至少最靠下五分之一。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述处理室的所述区域包括在所述构建区域(10)的竖向上方处理室高度的至少最靠下三分之一。

5.根据权利要求2所述的方法,其中,所述处理室的所述区域在所述构建区域(10)的平面内和/或在所述构建区域(10)上方的平行平面内包括所述构建区域的周围区域。

6.根据权利要求2所述的方法,其中,所述处理室的所述区域在所述构建区域(10)的平面内和/或在所述构建区域(10)上方的平行平面内包括处理室底部(4b)的基本上整个区域。

7.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述处理室(3)具有处理室底部(4b),所述处理室底部位于所述处理室顶盖(4a)下方,并且所述构建区域(10)在所述处理室底部(4b)的部分区域上延伸,并且处理室顶盖(4a)处的顶盖入口的开口横截面面积相对于所述处理室底部(4b)的总面积的分布是基本均匀的,其中,所述顶盖入口被设计和/或被布置和/或被控制成使得,当所述顶盖气体流(44)的部分顶盖气体流离开所述顶盖入口时,所述部分顶盖气体流基本垂直于所述构建区域(10)向下被相应地引导到所述处理室底部(4b)上。

8.根据权利要求1或2所述的方法,其中,至少暂时地在所述构建材料(13)的选择性固化之前和/或期间和/或之后,所述顶盖气体流(44)流动经过所述处理室(3)。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,基本上在选择性固化的整个过程期间,所述顶盖气体流(44)流动经过所述处理室(3)。

10.根据权利要求1所述的方法,

其中,所述孔的平均开口横截面面积不超过10cm2,和/或

其中,所述孔的开口横截面面积的总和不超过处理室底部(4b)的总面积的20%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于EOS有限公司电镀光纤系统,未经EOS有限公司电镀光纤系统许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710797475.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top