[发明专利]一种线宽量测和问题评估的方法

权利要求书

1.一种线宽量测和问题评估的方法，其特征在于，包括下列步骤：

输入正常的固定的线宽量测方案；

输入晶圆上全部可用的线宽量测标识的信息；

输入相应的线宽的目标上下限以及线宽异常评估标准；

完成正常的固定的线宽数据收集，量测过程中，每得到一个量测标识的量测值，系统自动将其与目标上下限对比，如果量测值均在目标上下限范围内，则直接生成线宽报告，如果有超出目标上下限的数据点，则将其标记出来开始下一步骤；

针对标记出来的问题点，系统根据评估标准，自动判断是否需要增加新的数据收集方案，如果问题点所占比例超过设定值，则直接生成线宽异常报告，如果比例在设定值范围内，则开始下一步骤；

系统再根据评估标准自动判断需要将哪些量测标识纳入新的数据收集方案进行量测，如果新得到的量测数据均在目标上下限范围内，则开始下一步骤，如果新得到的量测数据中还是有超出目标上下限的问题点，则再将其标记出来，重复本步骤；

所述线宽异常评估标准从晶圆总体层面出发，设定了一个距离问题点的距离，在该距离范围内的与问题点相同种类的量测标识会被纳入新的数据收集方案，该距离基于不同的量测标识分布密度进行设定；

以此类推，直到线宽的量测数据均落在目标上下限范围内，生成线宽问题和问题影响程度报告。

2.根据权利要求1所述的线宽量测和问题评估的方法，其特征在于，所述全部可用的线宽量测标识包括在曝光单元的边缘和曝光单元中器件附近的所有专用于线宽量测的标识，以及器件图形。

3.根据权利要求1所述的线宽量测和问题评估的方法，其特征在于，所述线宽异常评估标准设定了问题点所占比例，该比例基于不同的线宽精度要求和不同种类的图形进行设定。

4.根据权利要求1所述的线宽量测和问题评估的方法，其特征在于，所述线宽异常评估标准从曝光单元层面出发，设定了一个距离问题点所在曝光单元中心的距离，在该距离范围内的曝光单元中与问题点相对位置坐标相同的量测标识会被纳入新的数据收集方案，该距离基于不同的曝光单元分布密度进行设定。

5.根据权利要求1所述的线宽量测和问题评估的方法，其特征在于，对距离标记出来的问题点规定距离范围内的量测标识进行量测时，会跳过已经量测过的点。