[发明专利]电场测量装置及系统在审

专利信息
申请号: 201710794904.X 申请日: 2017-09-05
公开(公告)号: CN107505510A 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 王磊;陈福深;陆德坚;朱琨 申请(专利权)人: 北京森馥科技股份有限公司
主分类号: G01R29/12 分类号: G01R29/12
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 宋南
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电场 测量 装置 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及光电子技术领域,尤其是涉及一种电场测量装置及系统。

背景技术

随着光电子技术的不断发展,集成光学器件在电场测量中的应用越来越广泛,LiNbO3集成光波导Mach-Zehnder型电场传感器以其体积小、宽带宽、零啁啾、对被测电场干扰小等优势,成为电场传感器制作的首选材料。

目前,LiNbO3集成光波导的制作工艺已经成熟,国内外均可以制作损耗较小、性能较好的LiNbO3器件用于制作LiNbO3集成光波导电场传感器,但由于制作工艺的不一致性和所处环境的差异性,导致制作的多个LiNbO3集成光波导电场传感器的直流漂移程度不同,在进行全向测量电场时需要将每个LiNbO3集成光波导电场传感器连接不同的可调谐激光器分别进行线性工作点的控制,以保证直流漂移带来的相位变化不会对传感器信号输出和信号测量产生影响。

然而,上述全向测量电场所用装置结构复杂,测量过程复杂,且涉及到针对每一个传感器输出的值分别进行读数和计算,在读数和计算过程中容易造成误差,使得最终的测量结果与实际值之间的偏差较大。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种电场测量装置及系统,以缓解了现有技术中存在的电场测量装置结构复杂、对电场测量过程复杂、测量结果不准确的技术问题。

第一方面,本发明实施例提供了一种电场测量装置,包括:

多个激光器,用于向光波导电场传感器发送预设波长的第一激光信号;

与所述激光器一一对应的光波导电场传感器,所述光波导电场传感器用于产生方向与预设三维坐标系中X方向、Y方向或者Z方向相同的电场,以及,将所述第一激光信号输送至产生的电场中,得到第二激光信号;

光合束器,用于将多路所述第二激光信号进行合路,得到合路激光信号;

光电探测器,用于根据所述合路激光信号生成电场测量信号,以使外部设备根据所述电场测量信号确定所述电场在所述预设三维坐标系中所述X方向、所述Y方向和所述Z方向的参数。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式,其中,所述装置还包括:与所述激光器和所述光波导电场传感器的组合一一对应的光纤耦合器,所述光纤耦合器用于对所述第二激光信号分别进行分路,其中一路分支激光信号输送至所述光合束器,另一路分支激光信号输送至控制模块;控制模块,用于根据所述分支激光信号的功率生成所述波长控制指令,并向所述激光器发送所述波长控制指令,以使所述激光器发送预设波长的第一激光信号。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式,其中,针对每个所述光波导电场传感器,根据所述光波导电场传感器的直波导和弯曲波导之间的光相位差与直流漂移产生的相位差之和等于(2n-1)π/2时确定的波长生成波长控制指令,其中,所述n为正整数。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式,其中,所述装置还包括:多个长度相同的保偏光纤,所述激光器与所述光波导电场传感器通过所述保偏光纤连接。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式,其中,所述装置还包括:多个长度相同的第一单模光纤、第二单模光纤,所述光纤耦合器与所述光合束器通过所述第一单模光纤连接,所述光合束器与所述光电探测器通过所述第二单模光纤连接。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第五种可能的实施方式,其中,每个所述光波导电场传感器的电极结构相同、干涉仪光波导结构相同。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第六种可能的实施方式,其中,所述多个激光器的输出功率相同。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第七种可能的实施方式,其中,每个所述光纤耦合器的信号输入端、第一信号输出端和第二信号输出端的端口的插入损耗、偏振相关损耗相同。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第八种可能的实施方式,其中,所述多个激光器、所述多个光波导电场传感器及所述多个光纤耦合器组成的多条光路系统的光路长度相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京森馥科技股份有限公司,未经北京森馥科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710794904.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top