[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法

权利要求书

1.一种悬浮液，其特征在于含有磨粒和水，所述磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，对于波长500nm的光有50％/cm以上的透光率。

2.根据权利要求1所述的悬浮液，所述透光率为60％/cm以上。

3.根据权利要求1所述的悬浮液，所述透光率为70％/cm以上。

4.根据权利要求1所述的悬浮液，所述透光率为80％/cm以上。

5.根据权利要求1所述的悬浮液，所述透光率为90％/cm以上。

6.根据权利要求1所述的悬浮液，所述透光率为100％/cm以下。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为150nm以下。

8.根据权利要求7所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为120nm以下。

9.根据权利要求7所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为100nm以下。

10.根据权利要求7所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为80nm以下。

11.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为1nm以上。

12.根据权利要求11所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为2nm以上。

13.根据权利要求11所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为5nm以上。

14.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，所述磨粒的平均粒径为1～150nm。

15.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，pH为2.0以上。

16.根据权利要求15所述的悬浮液，pH为3.0以上。

17.根据权利要求15所述的悬浮液，pH为3.5以上。

18.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，pH为9.0以下。

19.根据权利要求18所述的悬浮液，pH为8.0以下。

20.根据权利要求18所述的悬浮液，pH为7.0以下。

21.根据权利要求18所述的悬浮液，pH为6.0以下。

22.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，pH为2.0～9.0。

23.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，以悬浮液总质量为基准，所述磨粒的含量为15质量％以下。

24.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，以悬浮液总质量为基准，所述磨粒的含量为0.01质量％以上。

25.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，以悬浮液总质量为基准，所述磨粒的含量为0.01～15质量％。

26.根据权利要求1～6中任一项所述的悬浮液，以悬浮液总质量为基准，所述4价氢氧化铈粒子的含量为10质量％以下。