[发明专利]一种PERC微小图形印刷单晶太阳能电池片的制备方法

说明书

本发明公开了一种PERC微小图形印刷单晶太阳能电池片的制备方法，它以单晶硅片为基材，依次通过制绒、扩散、刻蚀、退火、背钝化、镀减反射膜、背面激光开槽、印刷、烧结、降光衰步骤制得；所述退火步骤采用无氧退火，背钝化步骤是在硅片背面镀Al₂O₃和SiN_X，镀减反射膜步骤是在硅片正面镀SiN_X，正电极印刷步骤采用丝网印刷，正电极印刷网版采用无网结微小图形印刷网版。本发明提供的一种PERC微小图形印刷单晶太阳能电池片的制备方法，可将电池片的LID可降低至1％附近，提高了组件成品的功率，转换效率高，品位和电性能都有明显的提升。

技术领域

本发明属于太阳能电池制备技术领域，具体涉及一种PERC微小图形印刷单晶太阳能电池片的制备方法。

背景技术

随着全球能源的日趋紧张，太阳能以无污染、市场空间大等独有的优势受到世界各国的广泛重视。太阳能电池又称“太阳能芯片”或“光电池”，是一种利用光生伏特效应将太阳能直接转化为电能的器件，主要有晶硅电池、半导体电池、无机电池、有机电池等，其中晶硅太阳能电池居市场主流主导地位。

晶硅太阳能电池目前的主流技术是PERC(Passivated Emitter Rear Cell)——发射极及背面钝化电池技术，它通过在电池的后侧上添加一个电介质钝化层来提高转换效率。PERC电池通过在电池背面实行钝化技术，增强光线在硅基的内背反射，降低了背面复合，最大化跨越了P-N结的电势梯度，使得电子更稳定的流动，减少了电子重组，从而使PERC电池的效率得到有效提高。但现有的PERC电池普遍存在光至衰减(LID)问题，LID能导致组件功率衰减高达10％以上。

发明内容

有鉴于此，针对上述现有技术的不足，本发明提供一种能够降光衰的PERC微小图形印刷单晶太阳能电池片的制备方法。

为解决以上技术问题，本发明的技术方案为采用一种PERC微小图形印刷单晶太阳能电池片的制备方法，它以单晶硅片为基材，依次通过A.制绒，B.扩散，C.刻蚀，D.退火，E.背钝化，F.镀减反射膜，G.背面激光开槽，H.背电极、背电场、正电极印刷，I.烧结，J.降光衰步骤制得；所述D.退火步骤采用无氧退火，E.背钝化步骤是在硅片背面镀Al₂O₃和SiN_X，F.镀减反射膜步骤是在硅片正面镀SiN_X，H.背电极、背电场、正电极印刷步骤采用丝网印刷，正电极印刷网版采用无网结微小图形印刷网版。

进一步的，所述J.降光衰步骤具体包括以下步骤：

a.将烧结后的太阳能电池片放入光衰炉；

b.为太阳能电池片加热；

c.对太阳能电池片进行光照；

d.对太阳能电池片进行降温；

e.出炉。

上述步骤b中加热温度为278-282℃以及293-295℃。

上述步骤c中采用模拟太阳光对太阳电池片进行光照，光照的光强为5.0-6.9SUN，光照的时间为38-42秒。

本发明通过上述降光衰工艺，使得电池片光衰(LID)大幅度的降低。目前业界单晶光衰基本在2％以上更有甚者达到3％以上，而在经过上述光衰工艺后，电池片的LID可降低至1％附近，提高了组件成品的功率。另外电池片在过光源炉前后的效率基本无变化或差异很小，并且对生产并无额外副作用。

进一步的，所述B.扩散步骤中具体包括以下步骤：

a.将制绒后的单晶硅片放入扩散炉，并往扩散炉中通入大氮；

b.将扩散炉炉腔升温至第一温度，并持续通入大氮；