[发明专利]自由空间光隔离器芯片的切割方法及光隔离器微型芯片有效
申请号: | 201710779084.7 | 申请日: | 2017-09-01 |
公开(公告)号: | CN107564808B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 郁建科;练文东;陈永清 | 申请(专利权)人: | 深圳市翔通光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/78 |
代理公司: | 44268 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自由空间 隔离器 芯片 切割 方法 微型 | ||
1.一种自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述方法包括:
步骤M、预先将0°偏振片、法拉第片以及45°偏振片依次胶合固化后,形成整块光隔离器芯片;所述整块光隔离器芯片的尺寸为11mm*11mm;
步骤A、将硅片放置在一预先进行加热处理到预定温度的楔形黄铜垫块的倾斜面上;所述楔形黄铜垫块的倾斜面与水平方向成一预设的倾斜角度;
步骤B、将预先胶合完成的整块光隔离器芯片与硅片粘合并固化;
步骤C、启动切割机,并以一定的间距对整块光隔离器芯片进行竖直下刀切割,形成带有所述倾斜角度的光隔离器微型芯片。
2.根据权利要求1所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述步骤A之前还包括:
步骤S、预先在所述楔形黄铜垫块的倾斜面上涂覆黄蜡,并进行加热处理。
3.根据权利要求2所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述步骤S具体包括:
步骤S1、在所述楔形黄铜垫块的倾斜面上涂覆一层厚度为0.2mm~0.5mm的黄蜡;
步骤S2、将涂覆完黄蜡的所述楔形黄铜垫块放置在一加热台上,并以65°的温度进行加热处理;
步骤S3、所述黄蜡受热融化,在所述楔形黄铜垫块的倾斜面上形成均匀的黄蜡胶状层。
4.根据权利要求1所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述步骤A具体包括:
步骤A1、将硅片放置在所述楔形黄铜垫块的倾斜面上;
步骤A2、所述楔形黄铜垫块的倾斜面上的黄蜡胶状层将所述硅片固定倾斜面上。
5.根据权利要求4所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述楔形黄铜垫块的倾斜面与水平方向的角度为7°。
6.根据权利要求4所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述硅片的厚度为0.7mm。
7.根据权利要求1所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述步骤B具体包括:
步骤B1、预先在所述硅片的上表面点上清洁胶;
步骤B2、将预先胶合完成整块光隔离器芯片放置在所述硅片的上表面上进行粘合并固化。
8.根据权利要求1所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法,其特征在于,所述步骤C具体包括:
步骤C1、启动所述切割机,并调整所述切割机的主轴的角度,将所述切割机的主轴调整成竖直状态;
步骤C2、以一定的间距对所述整块光隔离器芯片进行竖直下刀切割,形成带有所述倾斜角度的光隔离器微型芯片;所述倾斜角度为7°,所述间距以μm为单位。
9.一种由权利要求1-8任一项所述的自由空间光隔离器芯片的切割方法制作的光隔离器微型芯片,其特征在于,所述光隔离器微型芯片是通过切割机对预先制作好的整块光隔离器芯片竖直下刀切割完成的;
所述光隔离器微型芯片包括:0°偏振片、法拉第片以及45°偏振片;
所述光隔离器微型芯片与水平方向角度为7°。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造