[发明专利]一种光敏胶微凝装置及方法

说明书

本发明公开了一种光敏胶微凝装置及方法，包括光敏胶容器、控制模块、设于所述光敏胶容器上且与所述控制模块连接的监测模块、抽排模块和加压模块。通过控制模块控制监测模块中的加热模块和抽排模块进行加热和抽排，使光敏胶中的溶剂挥发和排出，并通过监测模块中的粘度监测模块进行实时监测以达到指定粘度，实现了利用特定初始粘度的光敏胶获得相对较大的厚度范围，通过本装置处理后的光敏胶只需要进行一次旋涂，使用少量的光敏胶即可实现目标膜厚，提高了旋涂的产率，减少了光敏胶的用量；同时，有效防止多次旋涂的某一层旋涂异常导致的失效，避免了多次旋涂之间点胶时产生气泡，提高了点胶的成型效率和质量，降低了生产成本。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种光敏胶微凝装置及方法。

背景技术

光刻是将一种介质中的图案转印到另一种介质中的图案转印技术。通常借助光敏材料(即光敏胶)有选择性地实现图形的转印，通过包含图案的中介掩模有选择性地将其曝光。光敏胶的特性(包括正性和负性)，使得光敏胶的曝光部分(或者未曝光部分)成分发生改变，变成可溶于显影液的材料，然后通过显影液溶解可溶部分，进而形成图案化的光敏胶。

在光刻领域的晶圆旋涂工艺中，对于一款固定的光敏胶，若要在基片1上获得更厚的光敏胶厚度往往通过多次旋涂来实现，如图1a所示，包括第一层21、第二层22、第三层23至第N层24。由于第一层21旋涂表面有一定粗糙度或缺陷，导致第二层22旋涂后与第一层21有一定的交错，如图1b所示，如果第一层21表面粗糙度或缺陷过大，将会降低最终的光敏胶性能，影响最终的工艺稳定性。

此外，多次旋涂增加了旋涂次数，此过程经历旋涂、烘烤、再旋涂、再烘烤……，过程反复，严重影响产率，并且增加了光敏胶用量，提高了生产成本。

在半导体行业的点胶领域中，粘度较低的光敏胶在强力挤压的高剪切过程中造成树脂分子降解、产生气泡，并且后续需要进行较长时间的烘烤或其他工艺，成型时间较长，产率较低。

发明内容

本发明提供了一种光敏胶微凝装置及方法，以解决现有技术中存在的点胶时产生气泡导致光敏胶性能低、工艺稳定性差以及成型时间长、产率低的问题。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种光敏胶微凝装置，包括光敏胶容器、控制模块、设于所述光敏胶容器上且与所述控制模块连接的监测模块、抽排模块和加压模块。

进一步的，所述监测模块包括分别与所述控制模块连接的温度监测模块、粘度监测模块、质保监测模块和液位监测模块。

进一步的，所述温度监测模块包括加热模块和冷却模块。

进一步的，所述加热模块位于所述光敏胶容器底部，包括升温单元和第一温度传感器。

进一步的，所述冷却模块围设于所述光敏胶容器外周，包括降温单元和第二温度传感器。

进一步的，所述加热模块和冷却模块均围设于所述光敏胶容器外周，所述加热模块包括升温单元和第一温度传感器，所述冷却模块包括降温单元和第二温度传感器。

进一步的，所述抽排模块位于所述光敏胶容器顶部，包括抽排电机和抽排管路。

进一步的，所述加压模块设于所述光敏胶容器顶部。

进一步的，所述粘度监测模块设于所述光敏胶容器的侧面，包括粘度监测传感器和反馈单元。

进一步的，所述质保监测模块设于所述光敏胶容器的侧面。

进一步的，所述液位监测模块包括液位监测传感器和提示器。

进一步的，所述液位监测模块设有两个，分别与光敏胶容器的上下两端对应。

本发明还提供一种光敏胶微凝方法，包括以下步骤：