[发明专利]一种负压式纳米压印设备在审

专利信息
申请号: 201710769975.4 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107479325A 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 赵敏洁;杨彦涛 申请(专利权)人: 无锡英普林纳米科技有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 成立珍
地址: 214192 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 负压式 纳米 压印 设备
【权利要求书】:

1.一种负压式纳米压印设备,包括支撑座和升降台,升降台的四周具有多根内部中空的升降柱固定于支撑座上,升降台可以沿升降柱移动,所述支撑座上还设有防滑硅胶垫和样品台,升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯,其特征在于:所述升降柱上端开口,下端密闭,升降柱的下端设置于支撑座的空腔底部,并且升降柱位于支撑座空腔内的部分侧面设有气孔,至少一个升降柱内还设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。

2.根据权利要求1所述的负压式纳米压印设备,奇特在于:采用四个升降柱,且四个升降柱内均设有固定于升降台上能够沿升降柱移动的负压阀。

3.根据权利要求1所述的负压式纳米压印设备,奇特在于:所述升降柱位于支撑座内的部分靠近底部的位置设有气孔。

4.根据权利要求1所述的负压式纳米压印设备,奇特在于:所述支撑座的空腔位于防滑硅胶垫的下部设有开口。

5.根据权利要求1或2所述的负压式纳米压印设备,奇特在于:所述负压阀为凹陷型的柔软负压硅胶垫,凹陷面朝向升降台下压的方向。

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