[发明专利]一种表盘及其制作方法及手表在审
| 申请号： | 201710763265.0 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN107390495A | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 冯毅;谢康;邱泽银 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G04B19/10 | 分类号： | G04B19/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 516600 广东省汕尾*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表盘 及其 制作方法 手表 | ||
1.一种表盘，其特征在于，所述表盘包括：
透明基板，所述透明基板具有中心区域以及包围所述中心区域的外围区域；
设置在所述中心区域的第一刻蚀图案，所述第一刻蚀图案用于散射光线；
设置在所述外围区域的数字时间标识。
2.根据权利要求1所述的表盘，其特征在于，所述数字时间标识为设置在所述透明基板上的第二刻蚀图案。
3.根据权利要求1所述的表盘，其特征在于，所述第一刻蚀图案包括多个同心圆；
或，所述第一刻蚀图案包括多条波浪线；
或，所述第一刻蚀图案包括以一设定中点向四周发散的多条射线。
4.根据1所述的表盘，其特征在于，所述第一刻蚀图案包括刻多个蚀凹槽；
所述刻蚀凹槽的宽度为5μm-100μm，包括端点值；
相邻两个所述刻蚀凹槽的间距为5μm-150μm，包括端点值。
5.根据权利要求4所述的表盘，其特征在于，所述刻蚀凹槽的宽度小于30μm时，所述刻蚀凹槽等间距设置。
6.根据权利要求4所述的表盘，其特征在于，所述刻蚀凹槽的宽度不小于30μm时，所述宽度与所述间距的差值的绝对值为0μm-30μm，包括端点值。
7.根据权利要求4所述的表盘，其特征在于，所述刻蚀凹槽的深度是3μm-25μm，包括端点值。
8.根据权利要求1-7任一项所述的表盘，其特征在于，还包括：
设置在所述透明基板表面的预设颜色的膜层。
9.根据权利要求8所述的表盘，其特征在于，所述膜层正对所述中心区域具有镂空区域。
10.根据权利要求8所述的表盘，其特征在于，所述膜层对应所述中心区域的透光率不小于30％。
11.一种表盘的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
提供一透明基板，所述透明基板具有中心区域以及包围所述中心区域的外围区域；
在所述中心区域形成第一刻蚀图案，在所述外围区域形成数字时间标识；
其中，所述第一刻蚀图案用于散射光线。
12.一种手表，其特征在于，所述手表包括：如权利要求1-10任一项所述的表盘。
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