[发明专利]一种半导体器件有效

专利信息
申请号: 201710757159.1 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN109427869B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 吕信江 申请(专利权)人: 南京芯舟科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/739
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 代理人: 朱培祺
地址: 210000 江苏省南京市浦口区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,其特征在于:包括至少一个元胞,且任意一个元胞的结构包括:

N型基底;

在所述N型基底的一侧包含至少一个第一槽单元和至少一个第二槽单元;

在所述N型基底的另一侧包含至少一个P型半导体区,所述P型半导体区称为阳极区;

至少一个N型载流子势垒区,所述N型载流子势垒区的掺杂浓度高于所述N型基底的掺杂浓度;

至少一个P型电场屏蔽区;

在所述第一槽单元的底部设有所述N型载流子势垒区,在所述第二槽单元的底部设有所述P型电场屏蔽区,所述N型载流子势垒区设有与所述第一槽单元的底部直接接触的面,还设有与所述第二槽单元的侧壁直接接触的面,所述P型电场屏蔽区设有与所述第二槽单元的底部直接接触的面;

在所述第一槽单元内设有栅极区,所述栅极区与半导体材料之间有第一介质相隔离,在所述第二槽单元内设有阴极区,所述阴极区与半导体材料之间设有第二介质相隔离;

所述半导体器件至少包括一个第一电极和一个第二电极;

所述P型半导体区设有与所述第一电极直接接触的面;

所述阴极区与所述第二电极相连接;

至少一个所述栅极区与所述第二电极之间设有第三介质相隔离,所述栅极区称为半导体器件的第三电极。

2.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述第一槽单元的宽度可以等于所述第二槽单元的宽度,所述第一槽单元也可以不等于第二槽单元的宽度;所述第一槽单元的深度小于等于所述第二槽单元的深度。

3.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:在所述N型基底的一侧设有至少一个浮空P型半导体区,所述浮空P型半导体区与所述第二电极之间设有第四介质相隔离。

4.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述P型半导体区与所述N型基底之间设有一个第一N型半导体区,所述N型半导体区称为电场截止区。

5.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述N型基底通过一个第二N型半导体区与所述第一电极相连接。

6.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述元胞包括两个或两个以上的所述第一槽单元,其中至少有一个第一栅极或第二栅极与所述第二电极相连接。

7.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述元胞包括两个或两个以上的第二槽单元,其中至少有两个所述P型电场屏蔽区相接触。

8.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个MOS控制的双极型晶体管,在所述第一槽单元和所述第二槽单元之间设有一个P型源体区;

所述P型源体区在紧贴所述第一槽单元的一侧至少有一个N型电子源区;

至少有部分所述P型源体区与部分所述N型电子源区与所述第二电极相连接;

所述第一槽单元、所述N型载流子势垒区、P型源体区以及所述N型电子源区构成MOS结构。

9.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个MOS控制的晶闸管。

10.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个二极管。

11.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个肖克莱二极管。

12.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个门极可关断晶闸管。

13.根据权利要求1-12任意一项所述的一种半导体器件,其特征在于:N型和P型可相互交换。

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