[发明专利]一种半导体器件有效
| 申请号: | 201710757159.1 | 申请日: | 2017-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN109427869B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
| 发明(设计)人: | 吕信江 | 申请(专利权)人: | 南京芯舟科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/739 |
| 代理公司: | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人: | 朱培祺 |
| 地址: | 210000 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 半导体器件 | ||
1.一种半导体器件,其特征在于:包括至少一个元胞,且任意一个元胞的结构包括:
N型基底;
在所述N型基底的一侧包含至少一个第一槽单元和至少一个第二槽单元;
在所述N型基底的另一侧包含至少一个P型半导体区,所述P型半导体区称为阳极区;
至少一个N型载流子势垒区,所述N型载流子势垒区的掺杂浓度高于所述N型基底的掺杂浓度;
至少一个P型电场屏蔽区;
在所述第一槽单元的底部设有所述N型载流子势垒区,在所述第二槽单元的底部设有所述P型电场屏蔽区,所述N型载流子势垒区设有与所述第一槽单元的底部直接接触的面,还设有与所述第二槽单元的侧壁直接接触的面,所述P型电场屏蔽区设有与所述第二槽单元的底部直接接触的面;
在所述第一槽单元内设有栅极区,所述栅极区与半导体材料之间有第一介质相隔离,在所述第二槽单元内设有阴极区,所述阴极区与半导体材料之间设有第二介质相隔离;
所述半导体器件至少包括一个第一电极和一个第二电极;
所述P型半导体区设有与所述第一电极直接接触的面;
所述阴极区与所述第二电极相连接;
至少一个所述栅极区与所述第二电极之间设有第三介质相隔离,所述栅极区称为半导体器件的第三电极。
2.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述第一槽单元的宽度可以等于所述第二槽单元的宽度,所述第一槽单元也可以不等于第二槽单元的宽度;所述第一槽单元的深度小于等于所述第二槽单元的深度。
3.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:在所述N型基底的一侧设有至少一个浮空P型半导体区,所述浮空P型半导体区与所述第二电极之间设有第四介质相隔离。
4.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述P型半导体区与所述N型基底之间设有一个第一N型半导体区,所述N型半导体区称为电场截止区。
5.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述N型基底通过一个第二N型半导体区与所述第一电极相连接。
6.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述元胞包括两个或两个以上的所述第一槽单元,其中至少有一个第一栅极或第二栅极与所述第二电极相连接。
7.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述元胞包括两个或两个以上的第二槽单元,其中至少有两个所述P型电场屏蔽区相接触。
8.根据权利要求1所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个MOS控制的双极型晶体管,在所述第一槽单元和所述第二槽单元之间设有一个P型源体区;
所述P型源体区在紧贴所述第一槽单元的一侧至少有一个N型电子源区;
至少有部分所述P型源体区与部分所述N型电子源区与所述第二电极相连接;
所述第一槽单元、所述N型载流子势垒区、P型源体区以及所述N型电子源区构成MOS结构。
9.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个MOS控制的晶闸管。
10.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个二极管。
11.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个肖克莱二极管。
12.根据权利要求8所述的一种半导体器件,其特征在于:所述半导体器件是一个门极可关断晶闸管。
13.根据权利要求1-12任意一项所述的一种半导体器件,其特征在于:N型和P型可相互交换。
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