[发明专利]低温多晶硅玻璃的处理方法及其处理后得到的玻璃和应用有效

专利信息
申请号: 201710754712.6 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN107586006B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 王兴龙;李青;严永海 申请(专利权)人: 东旭光电科技股份有限公司
主分类号: C03B5/235 分类号: C03B5/235;G06F3/041;G06F1/16
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 严政;刘依云
地址: 050035 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 低温 多晶 玻璃 处理 方法 及其 得到 应用
【说明书】:

发明涉及液晶玻璃基板显示领域,公开了一种低温多晶硅玻璃的处理方法及其处理后得到的低温多晶硅玻璃和应用,其中,该方法包括以下步骤:(1)采用火焰加热的方式对低温多晶硅玻璃进行第一熔化处理,然后采用火焰加热和电加热结合的方式对经第一熔化处理后的玻璃液进行第二熔化处理;(2)采用电加热的方式将经第二熔化处理后的玻璃液进行澄清处理;以及(3)采用电加热的方式将经澄清处理后的玻璃液进行均化处理。在低温多晶硅玻璃的处理方法中,采用电加热与火焰加热相结合的加热方式,可以克服低温多晶硅玻璃难熔、热透性差、料性短的弊端,并且可以减少由此带来的气泡、结石、条纹等溶解不良缺陷。

技术领域

本发明涉及液晶玻璃基板显示领域,具体涉及一种用于液晶玻璃基板显示领域的低温多晶硅玻璃及其制备方法和低温多晶硅玻璃板。

背景技术

低温多晶硅玻璃(LTPS玻璃)由于硅铝含量高,其中,SiO2的含量为60-63wt%;Al2O3的含量为17-20wt%。LTPS玻璃的熔化温度为1640℃,由于LTPS玻璃的熔化温度高、料性粘度大、热透性差,在窑池内对流、辐射、均化、热循环效率低;又由于LTPS玻璃熔化后料性短,在1630℃下流动性极差;以及工艺操作空间窄;容易产生气泡、结石、条纹等缺陷。溶解不良,均化不良使得良品率低。其一直是生产系统的不可逾越的障碍。

因此,研发一种以有效消除上述玻璃缺陷以提高产品良率的改进方法具有重要的现实意义。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术存在的上述缺陷,提供一种低温多晶硅玻璃的处理方法及其制备得到的低温多晶硅玻璃和应用。在低温多晶硅玻璃的处理方法中,采用电加热与火焰加热相结合的加热方式,可以克服低温多晶硅玻璃难熔、热透性差、料性短的弊端,并且可以减少由此带来的气泡、结石、条纹等溶解不良缺陷。

为了实现上述目的,本发明一方面提供了一种低温多晶硅玻璃的处理方法,其中,该方法包括以下步骤:(1)采用火焰加热的方式对低温多晶硅玻璃进行第一熔化处理,然后采用火焰加热和电加热结合的方式对经第一熔化处理后的玻璃液进行第二熔化处理;

(2)采用电加热的方式将经第二熔化处理后的玻璃液进行澄清处理;以及

(3)采用电加热的方式将经澄清处理后的玻璃液进行均化处理。

优选地,在步骤(1)中:

在第一熔化处理的过程中,火焰加热的温度为1645-1670℃;

在第二熔化处理的过程中,火焰加热的温度为1560-1575℃,电加热的温度为1645-1670℃;且在第二熔化处理过程中,火焰加热和电加热的总能量为5-8MJ/kg,其中,火焰加热的能量与电加热的能量的比为0.6-0.8:1;以及

经第二熔化处理后的玻璃液的粘度为200-250泊。

优选地,在步骤(2)中,在澄清处理的过程中,电加热的温度为1630-1680℃,以及经澄清处理后的玻璃液的粘度为220-240泊。

优选地,在步骤(2)中,所述澄清处理在澄清区域进行,且该澄清区域的澄清量为530-630Kg/m2,澄清区域的深度200-220mm。

优选地,在步骤(2)中,所述澄清区域设置有排气口。

优选地,在步骤(3)中,在均化处理的过程中,电加热的温度为1450-1520℃;以及经均化处理后的玻璃液的粘度为1500-1800泊。

优选地,在步骤(3)中,所述均化处理在机械搅拌的条件下进行,且搅拌速率为5-13转/分钟。

本发明还提供了一种由上述任意一项的处理方法制备得到的低温多晶硅玻璃。

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