[发明专利]高洁净度光学薄膜保护方法

说明书

技术领域

本发明属于光学薄膜制作领域，涉及光学薄膜运输、存储期间的保护技术。

背景技术

高洁净度光学薄膜因其加工精细，表面洁净度达纳米级别，光学薄膜保护有其特殊的要求，要求保护其光学表面不被挤压变形、不被长时间保存发生形变等，因此高洁净度光学薄膜的保护是光学薄膜大批量生产、运输所需要的。

在现有的光学薄膜保护工艺中，较为常见的方式是将光学薄膜表面覆上一层不同粘度的保护膜(如图1所示)，然后进行收卷以卷材方式进行保护(如图2所示)。使用这种保护方式，在短时间保存条件下，光学薄膜的表面洁净度影响不大，但随时间增加，由于保护膜与光学薄膜之间接触不均，导致光学薄膜表面局部受力挤压，加上光学薄膜表面上存上一些成分扩散，则光学薄膜表面的微结构发生变形或者一些分子聚集，造成光学薄膜表面洁净度下降，大大影响了光学效果。

另一保护方式是采用平放式保存，通过表面放置无粘度的保护膜(纸)，将光学薄膜进行隔层放置，以平放方式进行保存，放置一定数量后再以隔板隔开，实现片材的保存，参见图3所示。这种方式批量保存成本高，体积大不易运输。

以上两种技术存在的问题主要如下：

1、受力挤压造成光学薄膜表面微结构发生变形，不利于长时间保存。

2、保护膜与光学薄膜表面有空隙的部分容易发生分子迁移，造成表面污染，影响光学薄膜光学效果。

3、单片保存的方式保存成本高，保寸装置大，成本高，不易运输。

发明内容

本发明目的是为了解决现有技术的不足，提供了一种高洁净度光学薄膜保护方法。

本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法，该方法包括以下步骤：

步骤一、在光学薄膜的光学结构侧覆盖保护膜；

步骤二、在光学结构和保护膜之间的空隙内填充胶水；

步骤三、将填充的胶水固化，使得光学薄膜平坦化；

步骤四、将平坦化光学薄膜以卷材方式进行收卷；

步骤五、使用光学薄膜时，首先裁切卷材，然后将裁切下来的光学薄膜进行脱模操作，所述脱模操作的过程包括：沿保护膜与胶水边缘撕起，将整面保护膜、连带固化后的胶水从光学结构上脱离。

优选地，光学薄膜的制作方式为：通过模具转印方式在PET基材上面成型光学结构来制作光学薄膜。

优选地，步骤二填充的胶水为氟改性胶水或含有机硅胶水。

优选地，步骤三中的胶水固化后与保护膜具有附着性，与光学薄膜的光学结构具有互可脱模特性。

优选地，步骤三中胶水固化采用UV光照射固化方式。

本发明的有益效果：

1、对精细光学薄膜结构进行有效保护，防止压伤等不良影响；

2、通过无间隙保护，使光学薄膜表面不被污染，保持原有特性；

3、可大批量被存储与运输。

附图说明

图1是背景技术中提及的第一种光学薄膜保护方式的原理图；

图2是背景技术中提及的第一种光学薄膜保护方式的卷材过程原理图；

图3是背景技术中提及的第二种光学薄膜保护方式的原理图；

图4是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的流程图；

图5是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的原理图；

图6是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的卷材过程原理图；

图7是本发明所述高洁净度光学薄膜保护方法的撕除保护膜原理图。

具体实施方式

以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。

实施例：

通过模具转印方式在PET基材上面成型光学结构的光学薄膜。