[发明专利]一种用于防爆膜UV转印纹理的方法在审
申请号: | 201710741907.7 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN107571656A | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 童磊 | 申请(专利权)人: | 苏州安江源光电科技有限公司 |
主分类号: | B41M3/06 | 分类号: | B41M3/06;B41M5/382;B41M7/00;B32B7/06;B32B38/10 |
代理公司: | 上海宣宜专利代理事务所(普通合伙)31288 | 代理人: | 刘君 |
地址: | 215152 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 防爆膜 uv 印纹 方法 | ||
技术领域
本发明属于防爆膜领域,具体涉及一种用于防爆膜UV转印纹理的方法。
背景技术
随着光电子器件的发展,对半导体的制造工艺要求越来越高,对于防爆膜的表面涂层技术也是层出不穷。以一个防爆膜为例来说,防爆膜的第一层为离型膜,第二层为防爆膜,第三层为保护膜,将保护膜撕开之后可以对防爆膜进行转印纹理以及添加PVD层。关于图形以及纹理印刷,主要有热转印、水转印,丝印,转印就是将一定的图案或纹理转移至产品上的过程。传统的方式都是采用热转印以及丝印对图案和纹理进行印刷,主要缺点如下:一、印刷图案时需要大量的人手,工序繁琐,对工作人员的经验要求较高;二、印刷图案纹理经过多次的套印,套位与色彩有偏差,废品率高;三、旧型的产品转印纹理时,要在产品上下都覆一层底漆,过程繁琐,成本高。
为了解决上述技术问题,本发明提出一种用于防爆膜UV转印纹理的方法,包括:模具上滴加UV光油、贴合需做纹理的产品、UV光照射、产生纹理。所述的UV转印纹理的方法用于直接在防爆膜的表面产生凹凸不平的纹理,不需要事先覆一层底漆,在无尘环境将UV光油固化,避免纹理不良,实现各种各样的外观效果。
发明内容
一种用于防爆膜UV转印纹理的方法,包括:
模具上滴加UV光油:根据产品的要求在固定模具上滴加UV光油;
贴合需做纹理的产品:将产品放置于滴上UV光油的模具完全贴合在一起;
UV光照射:在无尘环境中用UV光照射产品和UV光油;
产生纹理:UV光油经过UV光照射固化,在产品上形成所选择的纹理。
进一步的,防爆膜产品主要由离型层1、防爆膜2、保护层3-1组成,需要说明的是,对防爆膜2进行转印纹理前要将保护层3-1撕掉,然后在固定模具上滴加UV光油,所述的UV光油是液态的,可以根据产品的要求配置亮光和哑光的调和比例,满足各种防爆膜的亮度要求。此外,根据产品的要求的纹理进而选择固定的纹理模具,比如CD纹、拉丝纹、发丝纹、卡波纹、编织纹等。
进一步的,将防爆膜和固定的纹理模具贴合在一起,防爆膜和固定的纹理模具贴合时要处于完全贴合的状态,防止形成的纹理层和防爆膜之间有气泡以及UV光油凝固时固化不合格,影响整个防爆膜的性能。
进一步的,UV光对贴合的防爆膜和模具照射时,其中的UV光油从液态变为固态,固化后的UV光油产生附着力,与防爆膜紧紧附着在一起,即在防爆膜2上形成了一层纹理层3-2。优选的是,所述的纹理层3-2是凹凸的,凹凸的纹理层产生不同的光程差,产生不同的干涉效果图案。
进一步的,所述的UV光的光源并非温度越高越好,也并非越低越好。优选的是,UV光照射的最佳温度为50℃~60℃,因为在这样的温度下,UV光油的固化速度较快,亮度较高,并且固化后的附着力较强。此外,UV光照的辐射能量,也称穿透力一定要满足UV光油吸收的能量要求,如果UV灯的辐射能量不够,即使UV灯的光照时间再长,UV光照的次数再多,也无法使底部的UV光油固化或者固化不充分,导致UV纹理层与防爆膜的附着力较差。优选的是,所述的UV光照的能量为300mJ/cm2。
进一步的,所述的UV光油主要成分为:硬化形树脂、单体、低聚物、光引发剂,硬化性树脂是膜层的主体,主要提供附着力、光泽、耐磨特性;UV光对UV光油照射时,光引发剂引发液态的单体和低聚物重合形成固态的聚合物,在防爆膜表面形成模具上的纹理。进一步的,所述的硬化型树脂包含醇酸树脂、丙烯酸树脂、合成脂肪酸树脂中的至少一种,优选的是,采用丙烯酸树脂。进一步的,所述的单体包含己二醇二丙烯酸酯(HDDA)、双季戊四醇五/六丙烯酸酯(DPHA)、三羟甲基丙烷三丙酸酯(TMPTA)中的至少一种。进一步的,所述的低聚物包含聚脲、聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺中的至少一种。进一步的,所述的光引发剂包含苯甲酰甲酸甲酯、安息香双甲醚、2-羟基-甲基苯基丙烷-1-酮、1-羟基-环已基-苯基甲酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、双(1-(2,4-二氟苯基)-3-吡咯基)二茂钛中的至少一种。
进一步优选的是,UV转印纹理层的环境尽量在无尘的环境中进行,有效避免纹理层的纹路不良。
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