[发明专利]柱状弧源和电弧离子镀膜装置

权利要求书

1.一种柱状弧源，用于电弧离子镀膜装置，该电弧离子镀膜装置包括罩设于所述柱状弧源的屏蔽罩，所述柱状弧源包括磁芯和套设于所述磁芯的靶管，所述磁芯包括磁极管和设于所述磁极管的一磁铁，其特征在于，所述柱状弧源还包括连接于所述靶管的传动机构，所述传动机构驱动所述靶管转动。

2.如权利要求1所述的柱状弧源，其特征在于，所述磁极管沿轴向开设有凹槽，所述磁铁容纳于所述凹槽内，所述磁铁的一磁极正对所述磁极管，另一磁极背离所述磁极管。

3.如权利要求1所述的柱状弧源，其特征在于，所述磁极管为碳钢材质；且/或，所述磁铁为橡胶磁铁或永磁铁。

4.如权利要求1所述的柱状弧源，其特征在于，所述屏蔽罩开设有溅射口，所述磁芯形成的磁场与所述溅射口至少部分重合。

5.如权利要求1-4任一项所述的柱状弧源，其特征在于，所述电弧离子镀膜装置包括真空室，所述柱状弧源设于所述真空室的内壁。

6.如权利要求5所述的柱状弧源，其特征在于，所述柱状弧源还包括分别设于所述靶管两端的第一固定座和第二固定座，所述磁芯与所述第一固定座和第二固定座均转动连接。

7.如权利要求6所述的柱状弧源，其特征在于，所述柱状弧源还包括第一端头和第二端头，所述第一端头一端连接于真空室的内壁，另一端与所述第一固定座转动连接，所述磁芯远离所述第一固定座的一端穿设所述第二固定座并连接于所述第二端头。

8.如权利要求6所述的柱状弧源，其特征在于，所述柱状弧源还包括设于靶管的同步轮，所述传动机构通过同步轮驱动所述靶管转动。

9.如权利要求6所述的柱状弧源，其特征在于，所述靶管套设有密封件，所述密封件抵持于所述第二固定座。

10.一种电弧离子镀膜装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的柱状弧源。