[发明专利]一种掩膜板、其构图方法及显示面板有效
申请号: | 201710729115.8 | 申请日: | 2017-08-23 |
公开(公告)号: | CN107436533B | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 董钊;李保然;徐佳伟;王准;杜芸;张雷 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/28 | 分类号: | G03F1/28 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 构图 方法 显示 面板 | ||
本发明公开了一种掩膜板、其构图方法及显示面板,包括:透光区域与遮光区域;其中,至少部分透光区域设置有透光膜层;透光膜层的折射率呈设定规律变化。由于掩膜板的透光区域所设置的透光膜层的折射率呈设定规律变化,因此曝光光源在经过透光膜层后光线的传输路径发生变化,产生的光线的叠加效应,改变了曝光光束在经过透光膜层后光束的光强分布,使得被曝光的光敏材料形成立体化的图形。由此采用一次构图工艺即可实现立体曝光,提高生产效率,降低生的成本。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤指一种掩膜板、其构图方法及显示面板。
背景技术
随着显示面板的不断发展,对于显示效果提出了更高的要求,对制作工艺也带来的新的挑战。在显示面板的制程中通常会用到掩膜工艺,其制作原理为在基材或膜材上面涂覆一层光敏材料,将与所需图案相对应的掩膜板覆盖其上,通过光源照射到掩膜板,引起暴露的光敏材料的物理或者化学反应,再经过显影等制程可以在基材或膜材上得到所需要的图案。
现阶段的掩膜设计方案是直接将光照图案裸露于光源之下,每一次曝光都可在光敏材料上形成一种图案。在需要形成立体式图案时,则需要进行多次曝光,这样不仅需要开发多个掩膜板,还要针对每个掩膜板进行多次曝光工序,才能获得立体式图案,无疑会大大增加了开发成本和生产时间成本。
发明内容
本发明实施例提供一种掩膜板、其构图方法及显示面板,用以曝光形成立体图案。
第一方面,本发明实施例提供一种掩膜板,其特征在于,包括:透光区域与遮光区域;其中,
至少部分所述透光区域设置有透光膜层;所述透光膜层的折射率呈设定规律变化。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光区域包括多个子区域,所述透光膜层在同一个所述子区域内连续分布。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光区域包括多个子区域,同一个所述子区域内包括多个所述透光膜层,各所述透光膜层之间不存在交叠区域。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光膜层的厚度均匀,且所述透光膜层的厚度与所述掩膜板遮光区域的厚度一致。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光膜层在平行于所述掩膜板所在平面内的折射率呈中心对称的变化趋势。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光膜层在平行于所述掩膜板所在平面内的折射率呈轴对称的变化趋势。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光膜层的折射率随着与对称轴之间的垂直距离的增大而增大;或者,
所述透光膜层的折射率随着与对称轴之间的垂直距离的增大而减小。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述透光膜层的折射率随着与对称轴之间的垂直距离的增大呈周期性的梯度变化趋势。
第二方面,本发明实施例提供一种采用上述任一掩膜板的构图方法,包括:
在需要构图的膜材表面形成设定厚度的光敏材料层;
将掩膜板设置于所述光敏材料层背离所述膜材一侧,所述掩膜板的至少部分透光区域设置有折射率呈设定规律变化的透光膜层;
使光源照射所述掩膜板,对所述透光区域对应的光敏材料层进行曝光刻蚀形成立体图形。
第三方面,本发明实施例提供一种显示面板,采用上述构图方法制作而成。
本发明有益效果如下:
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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