[发明专利]对随机过程建模的设备和方法

说明书

在此公开一种对随机过程建模的设备和方法。所述设备包括：自相关处理器，被配置为产生或估计随机过程的长度m的自相关性，其中，m为整数；最小二乘(LS)估计处理器，连接到自相关处理器，并被配置为通过使用LS回归估计p阶自回归(AR)参数来对随机过程建模，其中，p为远小于m的整数。所述方法包括：由自相关处理器产生随机过程的长度m的自相关性，其中，m为整数；由最小二乘估计处理器通过使用最小二乘(LS)回归估计p阶自回归(AR)参数对随机过程建模，其中，p为远小于m的整数。

本申请要求于2017年1月11日提交到美国专利商标局的第62/445,054号美国临时专利申请以及于2017年3月21日提交到美国专利商标局的第15/465,181号美国非临时专利申请的优先权，所述专利申请的全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本公开整体涉及一种用于对随机过程建模的系统和方法，更具体地，涉及一种用于使用减小长度的最小二乘(LS)自回归(AR)参数估计对随机过程建模的系统和方法。

背景技术

AR模型可在信号处理期间被用作随机过程的类型的代表或模型，以描述特定的时变过程。AR模型指定输出变量线性取决于它自身的之前值和随机项，因此AR模型为随机差分方程的形式。

对于随机过程的自协方差或自相关函数，获取AR参数的典型方法是通过求解尤尔沃克(Yule-Walker，YW)方程。使用这个方法，具有滞后p的AR模型能够使用直至长度p的相同的相关性准确地再现随机过程，其中，p为整数。假设使用p阶AR模型，一种典型的AR参数估计方法能够准确地匹配直至长度p的自相关性。因此，为了对长相关性建模，需要大的p，这通常指示增加的复杂性和低效率。

发明内容

根据一个实施例，一种用于对随机过程建模的设备包括：自相关处理器，被配置为产生或估计随机过程的长度m的自相关性，其中，m为整数；最小二乘估计处理器，连接到自相关处理器，并被配置为通过使用LS回归估计p阶AR参数来对随机过程建模，其中，p为小于m的整数。

根据一个实施例，一种用于对随机过程建模的方法包括：由自相关处理器产生或估计随机过程的长度m的自相关性，其中，m为整数；由最小二乘估计处理器通过使用LS回归估计p阶AR参数来对随机过程建模，其中，p为小于m的整数。

根据一个实施例，一种制造用于对随机过程建模的设备的方法包括：将所述设备与至少一个其他设备形成在晶片或封装件上，其中，所述设备包括自相关处理器和被配置为通过使用LS回归估计p阶自回归参数来对由长度m的自相关性表示的随机过程建模的LS估计处理器；测试所述设备，其中，测试所述设备的步骤包括使用一个或多个电光转换器、一个或多个将光信号分割成两个或更多个光信号的分光器、以及一个或多个光电转换器来测试所述设备。

根据一个实施例，一种构建集成电路的方法包括：针对所述集成电路的层的特征的集合产生掩模布局，其中，掩模布局包括用于包括用于对随机过程建模的设备的一个或多个电路特征的标准单元库宏，所述设备包括自相关处理器和LS估计处理器，LS估计处理器被配置为通过使用LS回归估计p阶自回归参数来对由长度m的自相关性表示的随机过程建模，其中，p为整数且p小于m；在产生掩模布局期间忽略宏的相关位置以符合布局设计规则；在产生掩模布局之后，检查符合布局设计规则的宏的相关位置；在检测到所述宏中的任何宏不符合布局设计规则时，通过将各个不符合的宏修改为符合布局设计规则来修改掩模布局；根据针对所述集成电路的层的特征的集合的修改的掩模布局，产生掩模；根据掩模制造所述集成电路层。

附图说明

通过下面的结合附图的详细描述，本公开的特定实施例的上述和其他方面、特征和优点将更加清楚，其中：

图1示出根据一个实施例的用于对随机过程建模的设备的示例性框图；

图2示出根据一个实施例的对随机过程建模的方法的示例性流程图；