[发明专利]显示基板、显示装置及显示基板制作方法有效
| 申请号: | 201710712077.5 | 申请日: | 2017-08-18 |
| 公开(公告)号: | CN109407410B | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
| 发明(设计)人: | 彭彬;冯永安;魏成铭;许志军;余道平 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 显示装置 制作方法 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的多个隔垫物和取向层,所述取向层覆盖所述衬底基板和所述多个隔垫物;
其中,所述多个隔垫物的远离所述衬底基板的一端具有倾斜表面;所述多个隔垫物的倾斜表面的倾斜方向一致;所述多个隔垫物的倾斜表面相对于所述衬底基板的高度沿所述取向层的摩擦取向方向逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述隔垫物为棱柱状。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,每个所述隔垫物的倾斜表面为平面。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述倾斜表面的至少一端的形状在与所述取向层的摩擦取向方向垂直的方向上的宽度沿所述摩擦取向方向逐渐减小。
5.根据权利要求1-4任一所述的显示基板,其特征在于,所述隔垫物的材料为光刻胶。
6.根据权利要求1-4任一所述的显示基板,其特征在于,所述多个隔垫物包括多个主隔垫物和多个辅隔垫物,所述辅隔垫物的高度小于所述主隔垫物的高度。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述多个主隔垫物的高度相等,所述多个辅隔垫物的高度相等。
8.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1-7任一所述的显示基板和对置基板,其中,所述显示基板和对置基板彼此相对设置,以将所述多个隔垫物夹置在二者之间。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述显示基板为彩膜基板或阵列基板。
10.一种显示基板制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
提供衬底基板;以及
在所述衬底基板上形成多个隔垫物和取向层,所述取向层覆盖所述衬底基板和所述隔垫物;所述多个隔垫物的远离所述衬底基板的一端具有倾斜表面;所述多个隔垫物的倾斜表面的倾斜方向一致;所述多个隔垫物的倾斜表面相对于所述衬底基板的高度沿所述取向层的摩擦取向方向逐渐减小。
11.根据权利要求10所述的显示基板制作方法,其特征在于,所述形成多个隔垫物包括:
在所述衬底基板上形成光刻胶层;
执行灰色调光刻工艺,其中,对应所述隔垫物的部分曝光区域的曝光强度沿与所述取向层的摩擦取向方向逐渐减弱或逐渐增强。
12.根据权利要求11所述的显示基板制作方法,其特征在于,使用所述光刻胶层形成所述隔垫物。
13.根据权利要求11所述的显示基板制作方法,其特征在于,所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物,所述部分曝光区域包括对应所述主隔垫物的第一部分曝光区域和对应所述辅隔垫物的第二部分曝光区域,所述第一部分曝光区域的曝光强度与所述第二部分曝光区域的曝光强度不同。
14.根据权利要求10-13任一所述的显示基板制作方法,其特征在于,所述制作方法还包括:
对所述取向层进行摩擦取向,其中,所述隔垫物相对于摩擦装置的移动方向与所述取向层的摩擦取向方向一致。
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