[发明专利]一种传送装置及真空溅射设备有效

专利信息
申请号: 201710711154.5 申请日: 2017-08-15
公开(公告)号: CN107488834B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 金贤权;马彪 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/56
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 导轨 传送装置 磁铁 承载机构 第二端部 第一端部 真空溅射设备 悬浮 传送
【权利要求书】:

1.一种传送装置,其特征在于,所述传送装置包括:第一导轨、第二导轨及位于所述第一导轨、第二导轨之间的承载机构;所述承载机构包括第一端部、第二端部及位于所述第一端部、第二端部之间的容纳空间,所述容纳空间用于装载被传送物;其中,

所述第一端部相对所述第一导轨设置,所述第一端部上设置有第一磁铁,且所述第一导轨上设置有与所述第一磁铁极性相同的第二磁铁;所述第二端部相对所述第二导轨设置,所述第二端部上设置有第三磁铁,且所述第二导轨上设置有与所述第三磁铁极性相同的第四磁铁;以使所述承载机构悬浮于所述第一导轨与第二导轨之间;

其中,所述传送装置为直立式传送装置,以使所述被传送物以直立状态进行传送,其中,所述第一导轨位于所述承载机构的上方,所述第二导轨位于所述承载机构的下方,所述传送装置还包括驱动机构,所述驱动机构位于所述第二导轨的下方。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一导轨/所述第二导轨包括第一顶端、第一侧边、第二侧边及由所述第一顶端、第一侧边、第二侧边合围形成的第一凹槽,所述第一端部/所述第二端部收容于所述第一凹槽中;所述第一顶端包括第一半区和第二半区,所述第一半区和所述第一侧边设置有N极磁铁,所述第二半区和所述第二侧边设置有S极磁铁,所述第一端部/所述第二端部靠近所述第一半区和所述第一侧边的区域设置有N极磁铁,所述第一端部/所述第二端部靠近所述第二半区和所述第二侧边的区域设置有S极磁铁。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一导轨/所述第二导轨包括第二顶端、第三侧边、第四侧边及由所述第二顶端、第三侧边、第四侧边合围形成的第二凹槽,所述第一端部/所述第二端部收容于所述第二凹槽中;所述第二顶端和所述第三侧边设置有N极磁铁,所述第四侧边设置有S极磁铁,所述第一端部/所述第二端部靠近所述第二顶端和所述第三侧边的区域设置有N极磁铁,所述第一端部/所述第二端部靠近所述第四侧边的区域设置有S极磁铁。

4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述驱动机构包括电机和驱动轮,所述驱动轮上设置有与所述第三磁铁极性相同的第五磁铁,所述第三磁铁为楔形设置,所述电机驱动所述驱动轮转动,通过改变所述第五磁铁与所述第三磁铁之间的作用力驱动所述传送装置移动。

5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述驱动轮为圆形、正六边形、正八边形中的一种。

6.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述传送装置应用于真空处理设备,其中,所述传送装置放置于真空处理腔内,且所述驱动机构放置于真空处理腔外。

7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁及第四磁铁均为经真空处理后的磁铁。

8.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁及第四磁铁具有与所述被传送物的重量相匹配的预定磁力强度。

9.一种真空溅射设备,其特征在于,所述真空溅射设备包括如权利要求1-8任一项所述的传送装置。

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