[发明专利]一种涂布检测装置、涂布设备及涂布检测方法

说明书

本发明涉及膜层制备技术领域，公开了一种涂布检测装置、涂布设备及涂布检测方法，该涂布检测装置中，包括：预涂辊，设于预涂辊周侧的光检测组件；光学检测组件包括用于向预涂辊表面发射光线的光发射器、和用于接收光发射器发射的光线被预涂辊表面反射回来的光线的光接收器；数据处理模块，数据处理模块与光接收器信号连接。上述涂布检测装置中的光发射器向预涂辊发射的光线经反射形成出射光线，通过光接收器感应出射光线的偏移量判断光线扫射处光刻胶涂层的涂覆状况，进而可以确定涂布设备是否发生阻塞，避免在基板上涂覆时发生Suji Mura，提高产品良率，减少人力、物力浪费。

技术领域

本发明涉及膜层制备技术领域，特别涉及一种涂布检测装置、涂布设备及涂布检测方法。

背景技术

随着TFT器件制作工艺的发展，玻璃基板的尺寸也越来越大，因此对TFT制造工艺要求也越来越高，对膜层缺陷的管控也更为严格。其中，在TFT制造工艺中的诸多缺陷中，很大一部分缺陷是由于曝光前涂胶不良引起的，在涂布过程中，由于涂布机上的喷嘴单元较长，很容易由于颗粒发生阻塞，导致阻塞处无PR胶涂覆，在玻璃基板上形成一处无PR胶的平行于短边的亮线，这种缺陷成为Suji Mura。

目前，在TFT产业生产中用到的涂胶主要有两种方式：旋转涂布和线性涂布。旋转涂布方式仅用在5代线以下，其涂覆方式是将待涂覆的基板吸附在机台上，在基板中心处喷涂光刻胶，在通过机台高速旋转带动基板高速旋转，利用离心力使基板上的光刻胶均匀涂敷在基板上，但由于光刻胶的粘附性等原因会导致涂覆完成后会有同心圆环状的缺陷，并且这种涂覆方式均匀性也难以管控，总会出现中心处光刻胶厚度较大的情况，且基板越大，同心圆环状的缺陷越明显，厚度均匀性也越差，因此逐渐不适用于大尺寸基板的涂覆。对于较大尺寸的基板涂布，线性涂覆方式可以适用，这种涂覆方式是使用一条与基板长边等长的狭缝状喷嘴喷吐一定量的PR胶附着在玻璃基板上，随着喷嘴的喷涂，机械部件带动喷嘴从基板的一边扫向另外一边，完成对整个基板的涂覆过程。但是此过程中对喷嘴喷涂的压力要严格管控，并且在喷嘴涂覆过程中不能有阻塞，喷嘴阻塞后会形成Suji Mura，这种缺陷会在造成贯穿线所处的所有仪表都停止，严重影响产品良率。

因此，在线性涂覆设备中，在正式涂覆光刻胶之前，为了预防喷嘴放置太久发生阻塞，都会在正式涂布之前在预涂辊上进行预喷涂，而现阶段只能通过在玻璃基板上涂覆后人眼观察涂覆是否有缺陷，这就造成了玻璃基板有重做或报废的风险，特别是在涂覆有机膜的过程中，如果发生了Suji Mura，由于有机膜无法修复，只能做报废处理，严重的影响了投入产出比，造成人力物力的浪费。

发明内容

本发明提供了一种涂布检测装置及涂布检测方法，该涂布检测装置的光发射器向预涂辊发射光线经预涂辊反射形成出射光线，通过光接收器接收出射光线来感应出射光线的偏移量判断光线扫射处光刻胶涂层的涂覆状况，进而可以确定涂布设备是否发生阻塞，避免喷嘴在基板上涂覆时发生Suji Mura，提高产品良率，减少人力、物力浪费。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种涂布检测装置，包括预涂辊，还包括：

设于所述预涂辊周侧、且可相对于所述预涂辊沿与所述预涂辊轴心线平行的方向移动的光检测组件；所述光学检测组件包括用于向预涂辊表面发射光线的光发射器、和用于接收所述光发射器发射的光线被预涂辊表面反射回来的光线的光接收器；

数据处理模块，所述数据处理模块与所述光接收器信号连接，用于根据所述光接收器接收的光线信息判断所述光发射器发射的光线在预涂辊表面的反射光的偏移量是否超过设定的偏移量阈值范围，若超出，判断所述预涂辊表面的光刻胶涂层发生涂覆不良。