[发明专利]一种补偿装置、曝光装置及曝光补偿方法有效

专利信息
申请号: 201710707431.5 申请日: 2017-08-17
公开(公告)号: CN107255907B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 毛元杰;侯学成;卢凯;李京鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/20
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 补偿 装置 曝光 方法
【说明书】:

发明提供了一种补偿装置、曝光装置及曝光补偿方法。其中,本发明提供的曝光装置,可以通过曝光机基台和曝光机出光口之间的补偿装置,调节出不同浓度的有色溶液对曝光机出射的光线进行遮挡。待处理膜层中膜厚越薄的位置,投影位置处有色溶液的浓度越高,从而对待处理膜层的感光深度进行定量补偿,以实现曝光量与待处理膜层膜厚的匹配性,使得曝光后在基板上形成精密的结构尺寸。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域,特别是涉及一种补偿装置、曝光装置及曝光补偿方法。

背景技术

TFT-LCD平板显示器,以其优良的性能、易于大规模生产的特性,成为了当今主流的显示设备。随着TFT-LCD生产技术的飞速发展,对生产精度的要求也在不断提升。

TFT-LCD制备过程中的光刻技术是形成特定图案的主要手段,也是影响生产精度的重要技术。光刻需要光刻胶(光阻)材料的配合,但是现有技术的设备对于涂胶的精度要求相对较低,需要通过后续甩胶的工艺来达到光刻胶的均一性。在生产过程中,涂胶设备的涂胶厚度不够均一,这种现象就会导致在同一个曝光速度下,使得不同位置关键尺寸存在较大差异。该差异严重影响了产品尺寸的均一性。特别是对于高分辨率产品,将使得关键部位的尺寸产生波动,严重降低产品精细化程度。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种补偿装置、曝光装置及曝光补偿方法,以解决待处理膜层膜厚不均一导致产品尺寸精细化程度低的问题。

一方面,提供了一种补偿装置,应用于曝光机,所述补偿装置包括溶液盒;

所述溶液盒内注有有色溶液,其中,所述有色溶液用于调节曝光机出射光线的透过率,以对待处理膜层的感光深度进行定量补偿。

进一步地,所述补偿装置还包括树脂外盒,所述树脂外盒包括至少一个槽位,各槽位分别用于容置注有所述有色溶液的溶液盒。

进一步地,所述各槽位内的溶液盒中有色溶液的浓度为预先配置的,其中,每一溶液盒内的有色溶液的浓度均一;所述各槽位内的溶液盒中有色溶液的浓度分别由投影位置处所述待处理膜层的感光深度补偿量确定。

进一步地,所述溶液盒一侧外表面上设有至少两个触点电极,所述溶液盒的周边设有与所述触点电极匹配的对电极,所述触点电极和所述对电极均与所述溶液盒内的有色溶液连通,其中,所述有色溶液中包含显色离子;所述补偿装置还包括:电刷;所述电刷的一端可与所述触点电极电连接;当进行定量补偿时,所述电刷移至目标触点电极,所述补偿装置通过调节施加在所述电刷上的电压控制所述目标触点电极与所述溶液盒周边位置处的对电极之间的电压差,改变所述有色溶液中显色离子的分布,以调节所述目标触点电极处有色溶液的浓度。

进一步地,所述触点电极由透明材料制成;多个所述触点电极在所述溶液盒一侧外表面上呈矩阵分布。

另一方面,还提供了一种曝光装置,包括:曝光机基台和曝光机出光口,以及上述补偿装置;

在使用所述曝光装置进行曝光时,所述补偿装置位于所述曝光机基台和所述曝光机出光口之间,用于对位于所述溶液盒下方的待处理膜层的感光深度进行定量补偿。

另一方面,还提供了一种曝光补偿方法,包括:

根据待处理膜层的膜厚分布,确定补偿区域以及所述补偿区域处待处理膜层的感光深度补偿量;

调节补偿装置,使溶液盒内有色溶液的浓度与所述感光深度补偿量匹配;

利用所述补偿装置对所述待处理膜层进行曝光。

进一步地,在调节补偿装置之前,还包括:预先制备溶液盒;所述制备溶液盒的步骤进一步包括:获取所述有色溶液的浓度与所述感光深度补偿量之间的对应关系;根据所述对应关系制备溶液盒,所述溶液盒内的有色溶液的浓度与所述感光深度补偿量对应。

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