[发明专利]偏振膜的制造方法和制造装置有效
申请号: | 201710702074.3 | 申请日: | 2017-08-16 |
公开(公告)号: | CN107765354B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 住田幸司;赵天熙;朴重万 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 制造 方法 装置 | ||
1.一种偏振膜的制造方法,其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0~3.5重量%的偏振膜的方法,包括下述工序:
将所述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序;
使所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序,所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液,所述交联剂的水溶液包含相对于水100重量份为1.5重量份以上且3重量份以下的所述硼化合物;
在所述交联工序后,将附着于所述聚乙烯醇系树脂膜的表面的所述水溶液去除的除液工序;
对所述除液工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序,所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25%以上,所述电磁波的照射热量相对于所述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm3以上且3000J/cm3以下;以及
将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。
2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法,其中,所述电磁波照射工序在将所述聚乙烯醇系树脂膜从所述交联浴中拉出后5秒以内进行。
3.根据权利要求2所述的偏振膜的制造方法,其中,在所述交联工序中,所述交联浴包含交联剂的水溶液,所述交联剂的水溶液包含相对于水100重量份为1.5重量份以上且3重量份以下的所述硼化合物。
4.一种偏振膜的制造装置,其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0~3.5重量%的偏振膜的制造装置,其具备:
将所述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色部;
使所述染色处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联部,所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液,所述交联剂的水溶液包含相对于水100重量份为1.5重量份以上且3重量份以下的所述硼化合物;
对所述交联处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射部,所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25%以上,所述电磁波的照射热量相对于所述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm3以上且3000J/cm3以下;以及
将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗部。
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