[发明专利]一种激光增益介质和装置在审

专利信息
申请号: 201710697043.3 申请日: 2017-08-15
公开(公告)号: CN107508121A 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 刘娇;唐晓军;王超;刘磊;刘洋;王喆;王钢;王文涛;陈露;杨雪;吕坤鹏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01S3/063 分类号: H01S3/063;H01S3/091
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心11010 代理人: 田卫平
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 增益 介质 装置
【权利要求书】:

1.一种激光增益介质,其特征在于,包括:

芯层、增益层、包层和端面膜层;

所述包层和所述端面膜层包裹的区域内设置有所述芯层和所述增益层;

所述增益层包括第一增益层和第二增益层,所述包层包括第一包层和第二包层;

所述第一增益层与所述第一包层连接,所述第二增益层与所述第二包层连接,所述端面膜层、所述第一包层、所述第二包层、所述第一增益层和所述第二增益层共同包裹所述芯层;

所述增益层的厚度由最大值处开始分别向两端的端面膜层方向以服从指数函数的规律减小,其中,所述最大值处落在所述包层和所述端面膜层包裹的区域剖面的中心与所述包层的垂直线上。

2.根据权利要求1所述的激光增益介质,其特征在于,

所述芯层与所述增益层以键合方式连接。

3.根据权利要求1所述的激光增益介质,其特征在于,

所述芯层为无掺杂区;

所述增益层为掺杂区,掺杂浓度范围为1at.%至3at.%。

4.根据权利要求1所述的激光增益介质,其特征在于,

所述增益层的所述最大值处的厚度范围为150微米至1000微米。

5.根据权利要求1所述的激光增益介质,其特征在于,

所述指数函数为以自然常数e为底数的指数函数。

6.根据权利要求1所述的激光增益介质,其特征在于,

所述包层为介质膜或光学倏逝膜。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的激光增益介质,其特征在于,

所述包层和所述端面膜层包裹的区域剖面为平行四边形。

8.根据权利要求7所述的激光增益介质,其特征在于,

所述平行四边形的任意一个夹角为45度。

9.一种激光增益装置,其特征在于,包括:

泵浦源、泵浦源耦合系统和权利要求1至8中任一项所述的激光增益介质。

10.根据权利要求9所述的激光增益装置,其特征在于,还包括:

种子源、种子源耦合系统和隔离器。

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