[发明专利]一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构及方法

权利要求书

1.一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构，其特征在于：在建筑物基础（5）下设水平隔渗层（10），在水平隔渗层（10）上方的建筑物基础（5）的周围设有垂直防渗帷幕（3），在水平隔渗层（10）下方的湿陷性黄土（2）的周围设有下帷幕。

2.根据权利要求1所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构，其特征在于：所述下帷幕为土帷幕（1），在水平隔渗层（10）中设有水平防渗膜（61）。

3.根据权利要求1所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构，其特征在于：所述下帷幕为土帷幕（1），在垂直防渗帷幕（3）和土帷幕（1）内设有纵向防渗膜（6），在水平隔渗层（10）中设有水平防渗膜（61）；防渗膜为土工膜。

4.根据权利要求1所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构，其特征在于：下帷幕为挤密帷幕，其中设有挤密桩（7）；水平隔渗层（10）为混凝土隔渗层。

5.一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层方法，其特征在于包括如下步骤：

A.根据建筑物基础范围、场地地形放线布置防渗帷幕；

B.进行建筑物基础以下防渗帷幕的施工，形成封闭的防渗帷幕；

C. 敷设水平隔渗层（10）；

D.待建筑物地下部分（5）完成后，进行其周围防渗帷幕（3）的施工，完成场地处理。

6.根据权利要求5所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层方法，其特征在于：水平隔渗层（10）两端比下帷幕外周长300~600mm；水平隔渗层（10）的厚度为400~800mm。

7.根据权利要求5所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层方法，其特征在于：所述下帷幕为挤密帷幕，挤密桩（7）成孔由双向螺旋钻机钻孔形成，钻孔的直径为300~600mm；素土或灰土分段填入钻孔中，进行夯实，压实系数不小于0.95。

8.根据权利要求5所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层方法，其特征在于：下帷幕和垂直防渗帷幕（3）为素土帷幕或灰土帷幕。

9.根据权利要求5所述的一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层方法，其特征在于：在水平隔渗层（10）中设有水平防渗膜（61）和加筋层，水平防渗膜（61）为土工膜，加筋层为土工布或土工格栅。