[发明专利]一种降低硅片镀膜白斑片的退火方法

权利要求书

1.一种降低硅片镀膜白斑片的退火方法，依次包括升温、稳定、恒温、冷却四个步骤，其特征在于，所述恒温步骤的参数确定方法包括以下步骤：

第一步，对刻蚀后的硅片进行退火加工，将加工所得的物料通过测试机进行方阻测试，确认退火方案可行；

第二步，将第一步退火加工所得的物料进行亲水测试A，确认二氧化硅层均匀性，进而确认退火方案可行；

第三步，通过DOE实验B确认影响镀膜白斑片主要因子为退火温度和氧气流量水平值，得到主要因子的最佳水平组合值，

所述升温步骤中，控制温度650-800℃，持续时间400-900s，期间通入氧气速度为100-1000ml/min，通入氮气速度为10000-20000ml/min，

所述稳定步骤中，控制温度650-800℃，持续时间400-900s，期间通入氮气速度为8000-15000ml/min，

所述恒温步骤中，控制温度650-800℃，持续时间1000-2000s，期间通入氧气速度为1000-4000ml/min，通入氮气速度为10000-20000ml/min，

所述冷却步骤中，控制温度600-800℃，持续时间400-1000s，期间通入氮气速度为20000-40000ml/min。

2.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜白斑片的退火方法，其特征在于，所述测试机选用四探针测试仪。

3.根据权利要求1所述的降低硅片镀膜白斑片的退火方法，其特征在于，所述亲水测试A包括以下步骤：

A1，取退火后的硅片放置在倾斜度为30°的斜坡上，线痕方向与水流方向平行；

A2，用移液枪在硅片上方3厘米处，选取同一水平面上的五个点平行测试，按下上部旋钮，自然滴落一滴DI水；

A3，测量水滴在10秒内自然流淌长度，对5个长度值进行数据处理，确认硅片的亲水性能。

4.根据权利要求1所述的一种降低硅片镀膜白斑片的退火方法，其特征在于，所述DOE实验B包括以下步骤：

B1，选取多个温度值和相应的数量的氧气流量值，建立二因子正交统计表；

B2，根据B1所得的统计表依次进行加工，得到对应的多个产品；

B3，将B2所得的产品依次进行方阻测试和亲水测试，在满足测试条件的基础上，统计多组对应产品在镀膜工序出现白斑的数量；

B4，对B3所得的多组产品在镀膜后出现白斑片的数量进行对比，选取其中最少的一组，其对应的温度值和氧气流量值即为主要因子的最佳水平值。