[发明专利]掩模版传输系统及方法、光刻设备及方法

说明书

本发明提供了一种掩模版传输系统，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，smif版架包括有支撑限位部，版盒包括有版盒限位部；版叉包括版叉本体和对称连接在版叉本体上的两根叉杆，叉杆包括用于支撑掩模版的转移部和防撞部，防撞部包括水平结构的第一防撞部和竖直结构的第二防撞部，第一防撞部水平连接于转移部背离掩模版的一侧，第一防撞部连接于转移部和第二防撞部之间，并且第二防撞部、第一防撞部以及转移部的侧壁形成一凹槽结构；当版叉从smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，支撑限位部或版盒限位部位于凹槽结构内。本发明提供的一种掩模版传输系统能够达到转移安全性高的效果。

技术领域

本发明属于光刻设备领域，涉及一种掩模版传输系统和传输方法、光刻设备及方法。

背景技术

光刻用掩模版非常昂贵，而且易碎，在使用过程中需要进行防撞保护。

在光刻机内部，掩模版被撞损坏概率最高的位置即是掩模版从版盒到掩模台的掩模传输过程中，即从版盒到smif版架，以及从smif版架到掩模台的过程中。在掩模版传输过程中，主要有以下情况会导致掩模版损伤：第一，掩模传输版叉从外部掩模版版盒中取放掩模版的过程；第二掩模传输版叉从内部掩模版版库中取放掩模版的过程。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模版传输系统和传输方法，旨在解决掩模版在放取过程中容易出现碰撞而引起的安全系数低的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种掩模版传输系统，包括smif版架、版盒以及用于转移掩模版的版叉，所述smif版架包括有若干层L形状的支撑体，所述支撑体包括水平结构的支撑连接部和竖直结构的掩模版支撑部，所述支撑连接部的底端还固定有支撑限位部，所述版盒包括有版盒顶板、版盒侧壁、版盒底板以及有用于支撑所述掩模版的版盒支座，所述版盒侧壁上还固定有版盒挡板，所述版盒挡板包括水平连接在版盒侧壁的版盒连接部以及竖直连接在版盒连接部端部的版盒限位部，所述版盒侧壁、版盒连接部以及版盒限位部形成H形结构；

所述版叉包括板叉本体和对称连接在板叉本体上的两根叉杆，所述叉杆包括用于支撑掩模版的转移部和防撞部，所述防撞部包括水平结构的第一防撞部和竖直结构的第二防撞部，所述第一防撞部水平连接于所述转移部背离掩模版的一侧，所述第一防撞部连接于所述转移部和所述第二防撞部之间，并且所述第二防撞部、所述第一防撞部以及转移部的侧壁形成一凹槽结构；

当所述版叉从所述smif版架或版盒中取出或放入掩模版的时候，所述支撑限位部或版盒限位部位于所述凹槽结构内。

本发明进一步设置为，所述第一防撞部与所述版盒限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版到所述版盒顶板的下表面之间的垂向距离，所述第一防撞部与所述支撑限位部的底端之间的垂向距离小于掩模版与该掩模版上方的支撑连接部的下表面之间的垂向距离，所述第二防撞部的顶端高于所述版盒限位部或者所述支撑限位部的底端。

本发明进一步设置为，所述第二防撞部与所述版盒限位部之间的水平距离小于掩模版与所述版盒限位部之间的水平距离，所述转移部与所述掩模版支撑部之间的水平距离小于掩模版与所述支撑限位部之间的水平距离。

本发明进一步设置为，所述转移部上设置有若干个用于支撑掩模版的支撑块。

本发明进一步设置为，所述板叉本体上设置有用于推送位于所述叉杆上掩模版的推送组件，所述叉杆上设置有用于对掩模版进行限位的限位块。

本发明进一步设置为，所述推送组件包括有推送气缸以及连接所述推送气缸的推送件。