[发明专利]曝光设备和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光设备，包括控制系统、光源系统、照明系统及投影物镜，其特征在于，所述照明系统设有多套，每套所述照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器，所述光源系统包括光源发生器，所述光源发生器发出的照明光束入射至所述照明系统，各所述照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给所述控制系统，所述控制系统控制各所述照明系统的可变衰减器调节对应支路的照度，所述投影物镜设有多套，并与所述照明系统一一对应，每套所述投影物镜的像面均设有测校能量探测器，所述测校能量探测器探测入射至所述像面的照明光束的照度，所述控制系统根据所述像面的照明光束的照度，以所有所述投影物镜的像面的照明光束的照度的最小值对应的可变衰减器为基准，计算其余的可变衰减器的衰减量，并执行可变衰减器设置，对入射至所述投影物镜的各照明光束进行照度匹配。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述光源系统设有一套，所述光源系统还包括光束单元，所述光束单元将所述光源发生器发出的照明光束分为多束，每束所述照明光束入射至一套所述照明系统。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述光源系统设有多套，与多套所述照明系统一一对应。

4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述可变衰减器包括两块遮光板，每个遮光板上均具有若干通孔，通过移动两个遮光板控制所述照明光束的通过量。

5.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述光源发生器包括汞灯。

6.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，每套所述光源系统均还包括恒光强探测器，所述恒光强探测器探测所述光源发生器产生的照明光束的光强。

7.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，每套所述照明系统均还包括匀光单元，所述支路能量探测器探测对应支路中进入所述匀光单元后的照明光束的照度。

8.根据权利要求7所述的曝光设备，其特征在于，所述匀光单元包括第一匀光棒以及与所述第一匀光棒连接的第二匀光棒，所述支路能量探测器探测所述第一匀光棒与所述第二匀光棒的连接处射出的所述照明光束。

9.根据权利要求8所述的曝光设备，其特征在于，所述匀光单元还包括支路反射镜及光阑，从所述第一匀光棒与所述第二匀光棒的连接处照射出的所述照明光束被所述支路反射镜反射，再经过所述光阑后被所述支路能量探测器探测。

10.一种曝光方法，其特征在于，采用如权利要求1所述的曝光设备对位于所述投影物镜的像面上的物料进行曝光动作，具体包括以下步骤：

对所述物料进行曝光动作前，探测入射至所述投影物镜的像面的各照明光束的照度，对入射至所述投影物镜的各照明光束进行照度匹配；

上载所述物料进行曝光，所述支路能量探测器实时探测并反馈各照明系统中照明光束的照度，所述控制系统实时判断各照明系统的照明光束的能量变化量，若所述能量变化量位于能量变化阈值内，则计算需要实时调整的能量数值后控制所述可变衰减器进行调节；

若所述能量变化量超出能量变化阈值则停止曝光生产，发出警报，触发对入射至所述投影物镜的各照明光束进行照度匹配，其中对入射至所述投影物镜的各照明光束进行照度匹配，包括以所有所述投影物镜的像面的照明光束的照度的最小值对应的可变衰减器为基准，计算其余的可变衰减器的衰减量，并执行其余的可变衰减器设置。