[发明专利]一种设置在塔底的双液位计测密度装置在审

专利信息
申请号: 201710681697.7 申请日: 2017-08-10
公开(公告)号: CN107271325A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 程志远;杨志;苏新 申请(专利权)人: 合肥宁垣工程技术有限责任公司
主分类号: G01N9/00 分类号: G01N9/00
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230088 安徽省合肥市高新*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 设置 双液位计测 密度 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于燃煤烟气脱硫设备领域,涉及一种密度计测量装置,具体是一种设置在塔底的双液位计测密度装置。

背景技术

在传统的镁法脱硫工艺中,脱硫塔下部都设有储液槽,该储液槽多用于暂时储存硫酸镁溶液,但是脱硫塔内硫酸镁溶液浓度难以控制,浓度过高容易导致料液结晶堵塞问题的产生。及时了解和控制亚硫酸镁溶液浓度显得非常重要,而当下个别检测仪表有时候会因为失效或者误差造成检测出来的硫酸镁溶液浓度产生偏差,从而无法精准的监控到硫酸镁溶液的浓度;为了解决上述缺陷,现提供一种解决方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种结构简单实用,能够及时准确监控塔内液体密度的设置在塔底的双液位计测密度装置。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

一种设置在塔底的双液位计测密度装置,包括脱硫塔,脱硫塔内设有一正常液位线,脱硫塔一侧设有隔膜式液位计,隔膜式液位计上连接有第一上接管,第一下接管,第一上接管、第一下接管均连接在脱硫塔上,且连接处均位于正常液位线下方;

脱硫塔的另一侧设有磁翻板液位计,磁翻板液位计上设有第二上接管、第二下接管,第二上接管连接在脱硫塔上且连接处位于正常液位线上方,第二下接管连接在脱硫塔上且连接处位于正常液位线下方。

进一步地,所述第二下接管和脱硫塔的连接处与第一下接管和脱硫塔的连接处位于同一水平面。

进一步地,所述磁翻板液位计的第二上接管上连接有第一反冲水水管,第二下接管上连接有第二反冲水水管,第一反冲水水管、第二反冲水水管通过第一管道和第二管道与反冲水存放装置相连接。

进一步地,所述第一反冲水水管和第二反冲水水管中间均设有限流孔板。

进一步地,所述第一管道与第二管道之间连接有过滤器。

本发明的有益效果:一种设置在塔底的双液位计测密度装置,在工作时通过隔膜式液位计和磁翻板液位计分别测量液位值,根据测量液位值和已知水密度,计算机计算出塔底溶液的密度。本发明通过塔底的双液位设置,能及时准确地监控脱硫塔底硫酸镁溶液的密度,避免了因为个别检测仪表出现误差或失效造成的检测不准,从而导致脱硫塔内管道因硫酸镁溶液密度过高结晶堵塞的问题。

附图说明

为了便于本领域技术人员理解,下面结合附图对本发明作进一步的说明。

图1是本发明的结构框图;

具体实施方式

如图1所示,一种设置在塔底的双液位计测密度装置,包括脱硫塔1,脱硫塔1内设有一正常液位线101,脱硫塔1一侧设有隔膜式液位计2,隔膜式液位计2上连接有第一上接管201,第一下接管202,第一上接管201、第一下接管202均连接在脱硫塔1上且连接处正常液位线101下方;

脱硫塔1的另一侧设有磁翻板液位计3,磁翻板液位计3上设有第二上接管301、第二下接管302,第二上接管301连接在脱硫塔1上且连接处位于正常液位线101上方,第二下接管302连接在脱硫塔1上且连接处位于正常液位线101下方,第一下接管202和脱硫塔1的连接处与第二下接管302和脱硫塔1的连接处位于同一水平面。

磁翻板液位计3的第二上接管301上连接有第一反冲水水管501,第二下接管302上连接有第二反冲水水管502,第一反冲水水管501和第二反冲水水管502中间均设有限流孔板4,第一反冲水水管501、第二反冲水水管502均通过第一管道601连接在过滤器6上,过滤器6通过第二管道701与反冲水存放装置7相连接,反冲水存放装置7、第一反冲水水管501和第二反冲水水管502的设置是为了防止塔底的硫酸镁溶液进入磁翻板液位计3,从外界输送过来的反冲水首先通过过滤器6除去水中的杂质,过滤后的水分两路分别通过限流孔板4降压定量的进入到磁翻板液位计3的第二上接管301和第二下接管302。

一种设置在塔底的双液位计测密度装置,在工作时通过通过隔膜式液位计和磁翻板液位计分别测量液位值,根据测量液位值和已知水密度,采用计算机计算出塔底溶液的密度。本发明通过塔底的双液位设置,能及时准确地监控脱硫塔底硫酸镁溶液的密度,避免了因为个别检测仪表出现误差或失效造成的检测不准,从而导致脱硫塔内管道因硫酸镁溶液密度过高结晶堵塞的问题。

以上内容仅仅是对本发明结构所作的举例和说明,所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范围。

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