[发明专利]规整排布的荧光标记DNA‑金纳米阵列的制备方法

权利要求书

1.一种规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的制备方法，其特征在于：以嵌段共聚物PS-b-P2VP、三水合氯金酸以及一端修饰巯基、一端修饰荧光分子的DNA单链为原料，首先，以苯乙烯与2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物(PS-b-P2VP)作为模板，制备分散均匀的包载氯金酸(HAuCl₄)的两亲性胶束，所述的PS-b-P2VP的分子量为30000~300000；然后，通过纳米涂层制备，在基底表面形成规整排布的金纳米颗粒的六方点阵；最后，利用金与巯基的化学反应，形成荧光标记的DNA-金纳米阵列。

2.根据权利要求1所述规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的制备方法，包括以下步骤：

(1) 负载氯金酸的嵌段共聚物胶束的制备

所有玻璃器皿均使用体积比为3:1人浓硫酸与双氧水的混合液彻底清洗，并用超纯水漂洗干净，称取一定量的PS-b-P2VP，加入20 mL无水甲苯，在室温下进行避光磁力搅拌24 h，形成澄清透明的胶束溶液，在干燥环境中，向胶束溶液中加入一定量的三水合氯金酸(HAuCl₄·3H₂O)，继续避光搅拌24 h，得到胶束内核负载有氯金酸的两亲性胶束溶液a；

(2) 均匀的金纳米涂层的制备

利用浸渍提拉镀膜机制备玻片表面的金纳米涂层，首先将仪器参数设定好，将清洗干净并充分吹干的玻片以一定的速度匀速下降浸入溶液中，再以一定的速度进行匀速上升提拉操作，玻片表面即涂覆上均匀的胶束单分子层，待甲苯挥发完全后，胶束会发生自组装，形成规整的六方点阵，进一步对涂层进行等离子体处理，将嵌段共聚物去除，并将氯金酸还原为单质金，得到均匀排列的金纳米阵列b；

(3) 荧光修饰的DNA-金纳米阵列的制备

将一端修饰巯基、一端修饰荧光分子的DNA单链配制成1 mL 100 μM的溶液，将金纳米阵列的玻片样品浸泡其中，避光静置30 min；再向其中加入50 mL 10 mM PBS，避光浸泡30 min；继续向其中加入1 mg/mL PEG溶液，避光静置30 min。如此即可得到荧光修饰的DNA-金纳米阵列c。

3.根据权利要求1或2所述规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的制备方法，其特征在于所述的PS-b-P2VP的浓度为3~7 mg/mL。

4.根据权利要求2所述规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的制备方法，其特征在于所述的三水合氯金酸与2-乙烯基吡啶单元的摩尔比为0.3~0.7。

5.根据权利要求2所述规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的制备方法，其特征在于在涂层制备时，玻片匀速上升的提拉速度为0.2~0.5 mm/s。

6.根据权利要求2所述规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的制备方法，其特征在于所述的DNA修饰的荧光分子为异硫氰酸荧光素(FITC)、四甲基异硫氰酸罗丹明(TRITC)、Cy3、Cy5、Cy5.5中的一种。

7.一种根据权利要求1-6任一所述制备方法得到的规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列产物。

8.根据权利要求7所述规整排布的荧光标记DNA-金纳米阵列的应用。