[发明专利]一种岩溶洼地降雨利用系统在审
申请号: | 201710676512.3 | 申请日: | 2017-08-09 |
公开(公告)号: | CN107401205A | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 沈志平;朱军;袁江文;王鸿;吴斌;付君宜 | 申请(专利权)人: | 贵州正业工程技术投资有限公司 |
主分类号: | E03F1/00 | 分类号: | E03F1/00;E03F3/02;E03F5/10;E03F5/14 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所52100 | 代理人: | 商小川 |
地址: | 550005 *** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 岩溶 洼地 降雨 利用 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种岩溶洼地降雨利用系统,属于岩溶洼地降雨集水设备技术领域。
背景技术
岩溶在我国分布广泛。在西南岩溶山区,水资源时空分布是极不均匀的。表现为区域降雨量充沛,但降雨过后雨水往往沿岩溶裂隙管道迅速补给地下暗河系统,造成地表水资源缺乏,而地下水丰富的现象。这种现象使得岩溶洼地内的居民常常遭遇生产生活用水困难的问题。而岩溶山区地下水埋藏较深,其建设开发利用难度较大。特别在枯水季节,当地居民更是只能靠天吃饭。目前,只能采取打井或远距离输水的方式解决用水问题。但打井取水则存在技术难度大、风险高、投资大等问题。而远距离输水则存在水量小、供给难、容易漏失等问题。同时,在岩溶山区洼地内还会由于降雨排水不畅而产生洼地内涝的问题,使得洼地底部居民房屋、耕地淹没,造成较大的财产损失。这都极大的制约了岩溶山区经济的发展。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:提供一种岩溶洼地降雨利用系统,,以解决岩溶山区居民生产生活用水问题,提高水资源利用,同时防止洼地内涝。
本发明采取的技术方案为:一种岩溶洼地降雨利用系统,包括底部积水池和积水沟槽,底部积水池设置在在洼地底部,积水沟槽一端连通到底部积水池,另一端连通纵向排水沟,纵向排水沟连通有横向截水沟。
优选的,上述底部积水池设置靠近顶部设置有溢流排水沟。
优选的,上述纵向排水沟至少有一条。
优选的,上述横向截水沟至少有一条。
优选的,上述底部积水池设置在洼地地下,上端设置有顶盖,顶盖设置有取水口。
优选的,上述积水沟槽与底部积水池连接处设置拦沙格栅。
优选的,上述积水沟槽与底部积水池连接处设置阻沙台阶。
优选的,上述阻沙台阶高度为10~30厘米。
本发明的有益效果:与现有技术相比,本发明的效果如下:
(1)本发明通过在岩溶洼地内设置的横向截水沟拦截一定汇水面积内的降雨,并由纵向排水沟将降雨汇集流入积水沟槽,将洼地内降水汇集到底部积雨池进行贮存,能够有效地解决岩溶山区洼地居民生产生活缺水问题,将水资源进行储备,并起到防止洼地内涝的作用,该发明适用于缺水的岩溶山区洼地,安全可靠、便于施工与维护管理;
(2)本发明经过积水沟槽出水端设置的拦沙格栅和拦沙台阶的消能和拦沙作用后,起到拦截沙石与杂物进入底部积水池的作用;
(3)通过设置溢流排水槽,能够将多余的雨水排入临近的落水洞中。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是图1的A-A剖视结构示意图;
图3是横向截水沟截面结构示意图;
图4是纵向排水沟截面结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图及具体的实施例对本发明进行进一步介绍。
实施例1:如图1-图4所示,一种岩溶洼地降雨利用系统,见图1,它包括底部积水池1、纵向排水沟2、横向截水沟3、积水沟槽4、溢流排水沟5,底部积水池1设置在在洼地底部,积水沟槽4一端连通到底部积水池1,另一端连通纵向排水沟2,纵向排水沟2连通有横向截水沟3,底部积水池1靠近顶端设置有溢流排水沟5,纵向排水沟2至少有一条,横向截水沟3至少有一条,横向截水沟3主要起到拦截洼地内部分汇水面积内降雨,截面为梯形见图3,纵向排水沟起疏导积水作用,截面为矩形,见图4,横向截水沟3、纵向排水沟2其长度、截面大小,设置条数可根据所在洼地的大小、形态、当地用水需求等条件进行设置,本实施例中纵向排水沟2选择三条,横向截水沟3选择三条进行举例说明。
底部积水池1为半侧顶盖构造,见图2,另外半侧采用预制板的顶盖9覆盖,利于后期对底部积水池1的维护清理工作,顶盖部分设置一处取水口6,底部积水池1为地下结构,其大小可根据当地用水需求及当地降雨量进行设置。
底部积水池1与积水沟槽4连接处设有拦沙格栅7,与阻沙台阶8,起到拦阻沙石与杂物进入底部积水池1的作用。阻沙台阶8高约10~30厘米。
溢流排水沟5与洼地原生落水洞连接,起到将多余积水排泄作用,防止底部积水池1过满。
纵向排水沟2、横向截水沟3及溢流排水沟5均采用人工开挖沟槽,并采用浆砌石外加砼抹面。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内,因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
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